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2006年時(shí)，萊特完成了他相信幾乎正確的復(fù)制品。萊特和安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃成員仍同時(shí)進(jìn)行安提基特拉機(jī)械的研究。萊特稍微修改他的模型，引進(jìn)了計(jì)劃團(tuán)隊(duì)建議的針狀和槽狀嚙合齒輪，這更精確模擬了月球的角速度異常變化。2007年3月6日他在希臘的雅典國(guó)家考古博物館展示...

22、壓料檻壓料檻是斷面呈矩形的壓料筋特稱。參閱“壓料筋”。23、承料板承料板是用于接長(zhǎng)凹模上平面，承托沖壓材料的板狀零件。24、連續(xù)模連續(xù)模是具有兩個(gè)或更多工位的沖模，材料隨壓力機(jī)行程逐次送進(jìn)一工位，從而使沖件逐步成形。25、側(cè)刃側(cè)刃是在條（帶、卷）料側(cè)面切...

兩種工藝常規(guī)光刻技術(shù)是采用波長(zhǎng)為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實(shí)現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理，**終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝。在廣義上，它包括光復(fù)印和刻蝕工藝兩個(gè)主要方面。①光復(fù)印工藝...

06:28已經(jīng)確認(rèn)！2000年前的計(jì)算機(jī)，安提基特拉機(jī)械安提基特拉機(jī)械是世界上已知**早的齒輪裝置。自從發(fā)現(xiàn)以來一直讓科學(xué)史和技術(shù)史**好奇又疑惑。數(shù)個(gè)個(gè)人或團(tuán)隊(duì)研究已經(jīng)對(duì)其機(jī)制有更進(jìn)一步了解。主要研究人員有：首先研究它的德國(guó)語言學(xué)家阿爾伯特·雷姆、德瑞克·約...

使用長(zhǎng)焦距鏡頭拍攝具有以下幾個(gè)方面的特點(diǎn)：一是視角小。所以，拍攝的景物空間范圍也小，在相同的拍攝距離處，所拍攝的影像大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭，適用于拍攝遠(yuǎn)處景物的細(xì)部和拍攝不易接近的被攝體。二是景深短。所以，能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調(diào)焦帶來了一定的困...

以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的交換鏡頭為例，魚眼鏡頭是一種焦距約在6-16毫米之間的短焦距超廣角攝影鏡頭，“魚眼鏡頭”是它的俗稱。為使鏡頭達(dá)到比較大的攝影視角，這種攝影鏡頭的前鏡片直徑且呈拋物狀向鏡頭前部凸出，與魚的眼睛頗為相似，“魚眼鏡頭”因此而得名。魚...

自動(dòng)精密沖床是一種用于金屬?zèng)_壓成型的工業(yè)設(shè)備，主要應(yīng)用于汽車、電子、五金制造等領(lǐng)域，可適配自動(dòng)化送料系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)高效生產(chǎn)。其機(jī)身采用鋼板焊接結(jié)構(gòu)并經(jīng)過熱處理，具有高剛性和穩(wěn)定性。設(shè)備**部件包含曲軸、齒輪軸等硬化研磨組件，結(jié)合重心平衡設(shè)計(jì)保障沖壓精度。配置雙聯(lián)電磁...

放大率問題：光學(xué)鏡頭放大率問題，很多客戶可能對(duì)鏡頭放大率不了解或者認(rèn)識(shí)不多，所以造成了對(duì)鏡頭使用的錯(cuò)誤操作或者選購不到合適的鏡頭，因此，普密斯光學(xué)針對(duì)這一問題進(jìn)行專業(yè)的講述，希望可以幫助大家更好的理解鏡頭參數(shù)問題。放 大 率 光學(xué)放大率影像大小相對(duì)于物體的放大...

由英國(guó)、希臘和美國(guó)**組成的安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃成員于2008年7月時(shí)，在機(jī)械上的一個(gè)青銅轉(zhuǎn)盤發(fā)現(xiàn)了一個(gè)字 "Olympia"，相信是用來指示卡利巴斯周期（Callippic cycle）；另外也發(fā)現(xiàn)了其他古希臘競(jìng)賽的名字，因此這可能是用來追蹤古代奧林匹克運(yùn)...

由英國(guó)、希臘和美國(guó)**組成的安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃成員于2008年7月時(shí)，在機(jī)械上的一個(gè)青銅轉(zhuǎn)盤發(fā)現(xiàn)了一個(gè)字 "Olympia"，相信是用來指示卡利巴斯周期（Callippic cycle）；另外也發(fā)現(xiàn)了其他古希臘競(jìng)賽的名字，因此這可能是用來追蹤古代奧林匹克運(yùn)...

景深范圍隨著鏡頭對(duì)被攝體聚焦，可在固定參看符號(hào)兩邊尋找對(duì)應(yīng)于（或接近）己調(diào)定的光圈f/數(shù)，辨認(rèn)焦距標(biāo)記下相對(duì)的數(shù)值，便可決定有效景深。景深的作用光圈大小的改變：通過相同焦距的鏡頭對(duì)相同距離的被攝體聚焦，該示說明光圈大小的調(diào)整是如何改變景深的。一般來說，被攝體的...

2024年9月工信部發(fā)布的技術(shù)指標(biāo)顯示，國(guó)產(chǎn)浸沒式光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn)：1.套刻精度≤8nm [1]2.滿足28nm制程需求 [1]3.具備多重曝光技術(shù)適配能力研發(fā)過程中需突破：超純水循環(huán)系統(tǒng)的納米級(jí)污染控制高速掃描下的液體湍流抑制光路折射率穩(wěn)定性維持林本堅(jiān)團(tuán)隊(duì)在浸液...

42、始用擋料銷（板）始用擋料銷（板）是供材料起始端部送進(jìn)時(shí)定位用的零件。始用擋料銷（板）都是移動(dòng)式的。43、拼塊塊是組成一個(gè)完整凹模、凸模、卸料板或固定板等的各個(gè)拼合零件。44、擋塊（板）擋塊（板）是供經(jīng)側(cè)刃切出缺口的材料送進(jìn)時(shí)定位用的淬硬零件，兼用以平衡側(cè)...

2024年9月工信部發(fā)布的技術(shù)指標(biāo)顯示，國(guó)產(chǎn)浸沒式光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn)：1.套刻精度≤8nm [1]2.滿足28nm制程需求 [1]3.具備多重曝光技術(shù)適配能力研發(fā)過程中需突破：超純水循環(huán)系統(tǒng)的納米級(jí)污染控制高速掃描下的液體湍流抑制光路折射率穩(wěn)定性維持林本堅(jiān)團(tuán)隊(duì)在浸液...

手動(dòng)光圈變焦鏡頭焦距可變的，有一個(gè)焦距調(diào)整環(huán)，可以在一定范圍內(nèi)調(diào)整鏡頭的焦距，其可變比一般為2 ～3倍，焦距一般為3.6~8mm。實(shí)際應(yīng)用中，可通過手動(dòng)調(diào)節(jié)鏡頭的變焦環(huán)，可以方便地選擇被監(jiān)視地市場(chǎng)的市場(chǎng)角。但是當(dāng)攝像機(jī)安裝位置固定下以后，在頻繁地手動(dòng)調(diào)整變焦是...

光學(xué)變焦是通過鏡頭、物體和焦點(diǎn)三方的位置發(fā)生變化而產(chǎn)生的。當(dāng)成像面在水平方向運(yùn)動(dòng)的時(shí)候，視覺和焦距就會(huì)發(fā)生變化，更遠(yuǎn)的景物變得更清晰，讓人感覺像物體遞進(jìn)的感覺。顯而易見，要改變視角必然有兩種辦法，一種是改變鏡頭的焦距。用攝影的話來說，這就是光學(xué)變焦。通過改變變...

光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測(cè)等工序。硅片清洗烘干方...

以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的交換鏡頭為例，標(biāo)準(zhǔn)鏡頭通常是指焦距在40至55毫米之間的攝影鏡頭，它是所有鏡頭中**基本的一種攝影鏡頭。 標(biāo)準(zhǔn)鏡頭給人以記實(shí)性的視覺效果畫面，所以在實(shí)際的拍攝中，它的使用頻率是較高的。但是，從另一方面看，由于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭的畫面效果...

光刻技術(shù)是現(xiàn)代集成電路設(shè)計(jì)上一個(gè)比較大的瓶頸?，F(xiàn)cpu使用的45nm、32nm工藝都是由193nm液浸式光刻系統(tǒng)來實(shí)現(xiàn)的，但是因受到波長(zhǎng)的影響還在這個(gè)技術(shù)上有所突破是十分困難的，但是如采用EUV光刻技術(shù)就會(huì)很好的解決此問題，很可能會(huì)使該領(lǐng)域帶來一次飛躍。但是涉...

集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個(gè)數(shù)量級(jí)（從毫米級(jí)到亞微米級(jí)），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、...

42、始用擋料銷（板）始用擋料銷（板）是供材料起始端部送進(jìn)時(shí)定位用的零件。始用擋料銷（板）都是移動(dòng)式的。43、拼塊塊是組成一個(gè)完整凹模、凸模、卸料板或固定板等的各個(gè)拼合零件。44、擋塊（板）擋塊（板）是供經(jīng)側(cè)刃切出缺口的材料送進(jìn)時(shí)定位用的淬硬零件，兼用以平衡側(cè)...

使用長(zhǎng)焦距鏡頭拍攝具有以下幾個(gè)方面的特點(diǎn)：一是視角小。所以，拍攝的景物空間范圍也小，在相同的拍攝距離處，所拍攝的影像大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭，適用于拍攝遠(yuǎn)處景物的細(xì)部和拍攝不易接近的被攝體。二是景深短。所以，能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調(diào)焦帶來了一定的困...

更精確的齒輪齒數(shù)此時(shí)也已得知，因此可進(jìn)一步發(fā)展新的齒輪配置模式。更正確的資訊允許萊特可以確認(rèn)普萊斯建議的后方面板的上方轉(zhuǎn)盤是顯示235個(gè)朔望月，分成五個(gè)旋轉(zhuǎn)量度的默冬章。此外，萊特還提出了驚人的看法，他認(rèn)為儀器后面的上方轉(zhuǎn)盤是每次旋轉(zhuǎn)包含47個(gè)部分，總共五個(gè)旋...

所有實(shí)際電子束曝光、顯影后圖形的邊緣要往外擴(kuò)展，這就是所謂的“電子束鄰近效應(yīng)。同時(shí)，半導(dǎo)體基片上如果有絕緣的介質(zhì)膜，電子通過它時(shí)也會(huì)產(chǎn)生一定量的電荷積累，這些積累的電荷同樣會(huì)排斥后續(xù)曝光的電子，產(chǎn)生偏移，而不導(dǎo)電的絕緣體（如玻璃片）肯定不能采用電子束曝光。還有...

目前，安提基特拉機(jī)械已被基本復(fù)原。 [5]以下是托尼·弗里思研究團(tuán)隊(duì)的***復(fù)原成果。安提基特拉裝置的制作者無論使用什么周期數(shù)據(jù)，都需要遵循三個(gè)標(biāo)準(zhǔn)：精確性、可分解性與經(jīng)濟(jì)性。簡(jiǎn)省且高效，是安提基特拉裝置齒輪傳動(dòng)系統(tǒng)的一個(gè)關(guān)鍵特征。新的行星周期數(shù)據(jù)可以納入齒輪...

更精確的齒輪齒數(shù)此時(shí)也已得知，因此可進(jìn)一步發(fā)展新的齒輪配置模式。更正確的資訊允許萊特可以確認(rèn)普萊斯建議的后方面板的上方轉(zhuǎn)盤是顯示235個(gè)朔望月，分成五個(gè)旋轉(zhuǎn)量度的默冬章。此外，萊特還提出了驚人的看法，他認(rèn)為儀器后面的上方轉(zhuǎn)盤是每次旋轉(zhuǎn)包含47個(gè)部分，總共五個(gè)旋...

b、接近式曝光（Proximity Printing）。掩膜板與光刻膠層的略微分開，大約為10～50μm。可以避免與光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷。但是同時(shí)引入了衍射效應(yīng)，降低了分辨率。1970后適用，但是其最大分辨率*為2～4μm。c、投影式曝光（Proj...

f/光圈數(shù)和光圈大小調(diào)定在某一f/光圈數(shù)時(shí)的任何種類的鏡頭能夠透射過幾乎相同 光量的影象，因?yàn)楣怅@直徑直接與焦距相關(guān)，例如，一只80毫米的鏡頭在使用5毫米的光闌直徑時(shí)，光圈必定調(diào)節(jié)在f/16上。因此鏡頭的焦距在除以光闌直徑后，就得到相應(yīng)的f/光圈數(shù)。焦距標(biāo)記調(diào)...

對(duì)準(zhǔn)對(duì)準(zhǔn)方法：a、預(yù)對(duì)準(zhǔn)，通過硅片上的notch或者flat進(jìn)行激光自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)；b、通過對(duì)準(zhǔn)標(biāo)志（Align Mark），位于切割槽（Scribe Line）上。另外層間對(duì)準(zhǔn)，即套刻精度（Overlay），保證圖形與硅片上已經(jīng)存在的圖形之間的對(duì)準(zhǔn)。曝光曝光中**...

放大率問題：光學(xué)鏡頭放大率問題，很多客戶可能對(duì)鏡頭放大率不了解或者認(rèn)識(shí)不多，所以造成了對(duì)鏡頭使用的錯(cuò)誤操作或者選購不到合適的鏡頭，因此，普密斯光學(xué)針對(duì)這一問題進(jìn)行專業(yè)的講述，希望可以幫助大家更好的理解鏡頭參數(shù)問題。放 大 率 光學(xué)放大率影像大小相對(duì)于物體的放大...