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安提基特拉機(jī)械以其小型化和其部分裝置的復(fù)雜性可與19世紀(jì)機(jī)械鐘表相比而聞名。它有超過30個齒輪，雖然麥可·萊特認(rèn)為它可多達(dá)72個有正三角形齒的齒輪。當(dāng)借由一個曲柄輸入一個日期，該機(jī)械就可算出日月或行星等其他天**置。因?yàn)樵摍C(jī)械是以地球表面觀測天球者為參考座標(biāo)，...

b、接近式曝光（Proximity Printing）。掩膜板與光刻膠層的略微分開，大約為10～50μm?？梢员苊馀c光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷。但是同時引入了衍射效應(yīng)，降低了分辨率。1970后適用，但是其最大分辨率*為2～4μm。c、投影式曝光（Proj...

準(zhǔn)分子光刻技術(shù)作為當(dāng)前主流的光刻技術(shù)，主要包括：特征尺寸為0．1μm的248 nm KrF準(zhǔn)分子激光技術(shù)；特征尺寸為90 nm的193 nm ArF準(zhǔn)分子激光技術(shù)；特征尺寸為65 nm的193 nm ArF浸沒式技術(shù)（Immersion，193i）。其中193...

使用長焦距鏡頭拍攝具有以下幾個方面的特點(diǎn)： [3]視角小所以，拍攝的景物空間范圍也小，在相同的拍攝距離處，所拍攝的影像大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭，適用于拍攝遠(yuǎn)處景物的細(xì)部和拍攝不易接近的被攝體 [3]。景深短所以，能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調(diào) 焦帶來了一...

1：可用機(jī)電式驅(qū)動器或液壓缸作為驅(qū)動動力。2：快速、精確地對卷材進(jìn)行定位，使用的卷材寬度可達(dá)1930mm（76.0″）。3：低摩擦滾珠軸套和轉(zhuǎn)動桿的設(shè)計。4：耐用的結(jié)構(gòu)設(shè)計可長時間連續(xù)使用，**降低維修的需要。5：可選配的伺服對中器提高設(shè)置和卷材線性速度。6：...

后烘方法：熱板，110～130C,1分鐘。目的：a、減少駐波效應(yīng)；b、激發(fā)化學(xué)增強(qiáng)光刻膠的PAG產(chǎn)生的酸與光刻膠上的保護(hù)基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)并移除基團(tuán)使之能溶解于顯影液。顯影方法：a、整盒硅片浸沒式顯影（Batch Development）。缺點(diǎn)：顯影液消耗很大；顯影...

光刻系統(tǒng)是一種用于半導(dǎo)體器件制造的精密科學(xué)儀器，是制備高性能光電子和微電子器件不可或缺的**工藝設(shè)備 [1] [6-7]。其技術(shù)發(fā)展歷經(jīng)紫外（UV）、深紫外（DUV）到極紫外（EUV）階段，推動集成電路制程不斷進(jìn)步 [3] [6]。當(dāng)前**的EUV光刻系統(tǒng)已實(shí)...

c、水坑（旋覆浸沒）式顯影（Puddle Development）。噴覆足夠（不能太多，**小化背面濕度）的顯影液到硅片表面，并形成水坑形狀（顯影液的流動保持較低，以減少邊緣顯影速率的變化）。硅片固定或慢慢旋轉(zhuǎn)。一般采用多次旋覆顯影液：***次涂覆、保持10～...

魚眼鏡頭的體積較大。以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的魚眼鏡頭為例，當(dāng)將這種魚眼鏡頭安裝在體積較小的35毫米單鏡頭反光照相機(jī)機(jī)身上時，有一種“頭（鏡頭）大身體（機(jī)身）小”的感覺，且由于魚眼鏡頭重量不輕（如尼柯爾6毫米/F2.8手動對焦魚眼鏡頭重達(dá)5200克），...

在曝光過程中，需要對不同的參數(shù)和可能缺陷進(jìn)行跟蹤和控制，會用到檢測控制芯片/控片（Monitor Chip）。根據(jù)不同的檢測控制對象，可以分為以下幾種：a、顆粒控片（Particle MC）：用于芯片上微小顆粒的監(jiān)控，使用前其顆粒數(shù)應(yīng)小于10顆；b、卡盤顆?？?..

廣角鏡頭的基本特點(diǎn)是，鏡頭視角大，視野寬闊。從某一視點(diǎn)觀察到的景物范圍要比人眼在同一視點(diǎn)所看到的大得多；景深長，可以表現(xiàn)出相當(dāng)大的清晰范圍；能強(qiáng)調(diào)畫面的******效果，善于夸張前景和表現(xiàn)景物的遠(yuǎn)近感，這有利于增強(qiáng)畫面的***力。 [1]焦距比標(biāo)準(zhǔn)鏡頭 短，但...

1902年5月17日，考古學(xué)家維拉理奧斯·史大理斯檢查發(fā)現(xiàn)的沉船中物品時發(fā)現(xiàn)一個齒輪嵌在一塊巖石中。 [1]史大理斯一開始認(rèn)為這是天文鐘，但多數(shù)學(xué)者認(rèn)為這是時代錯誤，這物品和同時期發(fā)現(xiàn)的其他東西相較之下太過復(fù)雜。對該物品調(diào)查的熱潮很快下降，直到1951年英國物...

世界三 大光刻機(jī) 生產(chǎn)商ASML，Nikon和Cannon的*** 代 浸 沒 式 光 刻 機(jī) 樣 機(jī) 都 是 在 原 有193nm干式光刻機(jī)的基礎(chǔ)上改進(jìn)研制而成，**降低了研發(fā)成本和風(fēng)險。因?yàn)榻]式光刻系統(tǒng)的原理清晰而且配合現(xiàn)有的光刻技術(shù)變動不大，目前193...

廣角鏡頭***用于大場面風(fēng)景攝影作品的拍攝。 能增加攝影畫面的空間縱深感； 景深較長，能保證被攝主體的前后景物在畫面上均可清晰的再現(xiàn)。所以，現(xiàn)代絕大多數(shù)的袖珍式自動照相機(jī)（俗稱傻瓜照相機(jī)）采用38－35毫米的普通廣角鏡頭； 鏡頭的涵蓋面積大，拍攝的景物范圍寬廣...

用長焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物，影像質(zhì)量受天氣影響較大，紫外線、塵埃和水汽都會使影像清晰度下降、反差變?nèi)鹾蜕什伙柡?。因此，用長焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物時，比較好要選擇反差較大、色彩較飽和的景物做拍攝對象。此外，攝影時可用UV鏡、天光鏡或偏振鏡來提高影像清晰度；若是黑白攝影，還...

已找到一個制造于5或6世紀(jì)拜占庭帝國，和一個日晷相連接的日期齒輪的殘?。辉搩x器可能是做為報時輔助。在**世界中，西元9世紀(jì)早期阿拉伯帝國的哈里發(fā)委托巴努·穆薩寫下的《巧妙設(shè)備之書》（Book of Ingenious Devices，暫譯）。該書描述了超過一百...

掃描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工藝；掩膜板1：1，全尺寸；步進(jìn)重復(fù)投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或稱作Stepper）。80年代末～90年代...

自動精密沖床是一種用于金屬沖壓成型的工業(yè)設(shè)備，主要應(yīng)用于汽車、電子、五金制造等領(lǐng)域，可適配自動化送料系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)高效生產(chǎn)。其機(jī)身采用鋼板焊接結(jié)構(gòu)并經(jīng)過熱處理，具有高剛性和穩(wěn)定性。設(shè)備**部件包含曲軸、齒輪軸等硬化研磨組件，結(jié)合重心平衡設(shè)計保障沖壓精度。配置雙聯(lián)電磁...

光致抗蝕劑，簡稱光刻膠或抗蝕劑，指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑：受光照部分發(fā)生降解反應(yīng)而能為顯影液所溶解。留下的非曝光部分的圖形與掩模版一致。正性抗蝕劑具有分辨率高、對駐波效應(yīng)不敏感、曝光容限大、***密度低和無毒性等...

所有實(shí)際電子束曝光、顯影后圖形的邊緣要往外擴(kuò)展，這就是所謂的“電子束鄰近效應(yīng)。同時，半導(dǎo)體基片上如果有絕緣的介質(zhì)膜，電子通過它時也會產(chǎn)生一定量的電荷積累，這些積累的電荷同樣會排斥后續(xù)曝光的電子，產(chǎn)生偏移，而不導(dǎo)電的絕緣體（如玻璃片）肯定不能采用電子束曝光。還有...

42、始用擋料銷（板）始用擋料銷（板）是供材料起始端部送進(jìn)時定位用的零件。始用擋料銷（板）都是移動式的。43、拼塊塊是組成一個完整凹模、凸模、卸料板或固定板等的各個拼合零件。44、擋塊（板）擋塊（板）是供經(jīng)側(cè)刃切出缺口的材料送進(jìn)時定位用的淬硬零件，兼用以平衡側(cè)...

由測量系統(tǒng)、指示部分和表殼部分等組成。2.測量系統(tǒng)——由接頭，彈簧管和齒輪轉(zhuǎn)動機(jī)構(gòu)等組成。3.由被測介質(zhì)的壓力作用，使彈簧管的末端（自由端）相應(yīng)地產(chǎn)生位移，借助連桿帶動機(jī)構(gòu)中的扇形齒輪產(chǎn)生一角位移，而使齒輪軸得以偏轉(zhuǎn)——傳給指示部分。4.指示部分——由分度盤、...

西塞羅的著作《論共和國》，一本西元前一世紀(jì)的哲學(xué)對話錄，提及兩個現(xiàn)代被認(rèn)為是某種天象儀或太陽系儀的儀器，可以預(yù)測日月和五顆行星在天球的位置。這兩個儀器都是由阿基米德制造，在阿基米德于西元前212年的敘拉古圍城戰(zhàn)身亡后，這兩臺機(jī)器被羅馬將領(lǐng)馬庫斯·克勞迪烏斯·馬...

電動三可變鏡頭與自動光圈電動變焦鏡頭相比，只是將對光圈調(diào)整電機(jī)的控制由自動控制改為由控制器來手動控制。按焦距（約50度左右），廣角鏡頭和特廣角鏡頭（100-120度）標(biāo)準(zhǔn)鏡頭視角約50度，也是人單眼在頭和眼不轉(zhuǎn)動的情況下所能看到的視角，所以又稱為標(biāo)準(zhǔn)鏡頭。5m...

決定光刻膠涂膠厚度的關(guān)鍵參數(shù)：光刻膠的黏度（Viscosity），黏度越低，光刻膠的厚度越??；旋轉(zhuǎn)速度，速度越快，厚度越??；影響光刻膠均勻性的參數(shù)：旋轉(zhuǎn)加速度，加速越快越均勻；與旋轉(zhuǎn)加速的時間點(diǎn)有關(guān)。一般旋涂光刻膠的厚度與曝光的光源波長有關(guān)（因?yàn)椴煌墑e的曝光...

世界三 大光刻機(jī) 生產(chǎn)商ASML，Nikon和Cannon的*** 代 浸 沒 式 光 刻 機(jī) 樣 機(jī) 都 是 在 原 有193nm干式光刻機(jī)的基礎(chǔ)上改進(jìn)研制而成，**降低了研發(fā)成本和風(fēng)險。因?yàn)榻]式光刻系統(tǒng)的原理清晰而且配合現(xiàn)有的光刻技術(shù)變動不大，目前193...

廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機(jī)普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短，視角大，在較短的拍攝距離范圍內(nèi)，能拍攝到較大面積的景物。所以，**...

準(zhǔn)分子光刻技術(shù)作為當(dāng)前主流的光刻技術(shù)，主要包括：特征尺寸為0．1μm的248 nm KrF準(zhǔn)分子激光技術(shù)；特征尺寸為90 nm的193 nm ArF準(zhǔn)分子激光技術(shù)；特征尺寸為65 nm的193 nm ArF浸沒式技術(shù)（Immersion，193i）。其中193...

目 前EUV技 術(shù) 采 用 的 曝 光 波 長 為13．5nm，由于其具有如此短的波長，所有光刻中不需要再使用光學(xué)鄰近效應(yīng)校正（OPC）技術(shù)，因而它可以把光刻技術(shù)擴(kuò)展到32nm以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)。2009年9月Intel*** 次 向 世 人 展 示 了22 nm工...

2、廣角鏡頭使用遮光罩或?yàn)V色鏡時，很容易遮擋鏡頭視角的周圍，使像場發(fā)暗，而這一情況，在取景時不容易察覺，但在照片上卻很明顯。因此，運(yùn)用附件時， 一定要從說明書上了解清楚它們的使用范圍。如果說明書中沒有說明，拍攝時就要加倍小心。3、電子閃光燈閃光涵蓋角一般與13...