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自動(dòng)精密沖床是一種用于金屬?zèng)_壓成型的工業(yè)設(shè)備，主要應(yīng)用于汽車、電子、五金制造等領(lǐng)域，可適配自動(dòng)化送料系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)高效生產(chǎn)。其機(jī)身采用鋼板焊接結(jié)構(gòu)并經(jīng)過熱處理，具有高剛性和穩(wěn)定性。設(shè)備**部件包含曲軸、齒輪軸等硬化研磨組件，結(jié)合重心平衡設(shè)計(jì)保障沖壓精度。配置雙聯(lián)電磁...

邊緣光刻膠的去除光刻膠涂覆后，在硅片邊緣的正反兩面都會(huì)有光刻膠的堆積。邊緣的光刻膠一般涂布不均勻，不能得到很好的圖形，而且容易發(fā)生剝離（Peeling）而影響其它部分的圖形。所以需要去除。方法：a、化學(xué)的方法（Chemical EBR）。軟烘后，用PGMEA或...

光刻機(jī)系統(tǒng)是材料科學(xué)領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備，通過光學(xué)成像原理將掩模版上的微細(xì)圖形精確轉(zhuǎn)移到光刻膠表面。系統(tǒng)配置1Kw近紫外光源與6V/30W顯微鏡燈適配器，配備氣動(dòng)防震臺(tái)保障精密操作環(huán)境，其技術(shù)參數(shù)截至2020年11月24日仍在使用 [1]。通過光化學(xué)反應(yīng)將掩模版上的...

38、卸料螺釘卸料螺釘是固定在彈壓卸料板上的螺釘，用于限制彈壓卸料板的靜止位置。39、單工序模單工序模是在壓力機(jī)一次行程中只完成一道工序的沖模。40、廢料切刀廢料切刀有兩種。1．裝于拉深件凸緣切邊模上用于割斷整圈切邊廢料以利***的切刀。2．裝于壓力機(jī)或模具上...

光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測(cè)等工序。硅片清洗烘干方...

●高剛性高剛性、高精密的構(gòu)架，采用鋼板焊接，并經(jīng)熱處理、消除床身內(nèi)應(yīng)力。●重心平衡1．傳動(dòng)中心與機(jī)器整體的中心趨于一致，確保沖壓的精確、穩(wěn)定。●操作穩(wěn)定、安全離合器/剎車器裝置高度靈敏，再加國際前列的雙聯(lián)電磁閥和過負(fù)荷保護(hù)裝置，確保沖床滑塊運(yùn)轉(zhuǎn)及停止的精確性與...

英特爾高級(jí)研究員兼技術(shù)和制造部先進(jìn)光刻技術(shù)總監(jiān)YanBorodovsky在去年說過“針對(duì)未來的IC設(shè)計(jì)，我認(rèn)為正確的方向是具有互補(bǔ)性的光刻技術(shù)。193納米光刻是當(dāng)前能力**強(qiáng)且**成熟的技術(shù)，能夠滿足精確度和成本要求，但缺點(diǎn)是分辨率低。利用一種新技術(shù)作為193...

由英國、希臘和美國**組成的安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃成員于2008年7月時(shí)，在機(jī)械上的一個(gè)青銅轉(zhuǎn)盤發(fā)現(xiàn)了一個(gè)字 "Olympia"，相信是用來指示卡利巴斯周期（Callippic cycle）；另外也發(fā)現(xiàn)了其他古希臘競(jìng)賽的名字，因此這可能是用來追蹤古代奧林匹克運(yùn)...

為把193i技術(shù)進(jìn)一步推進(jìn)到32和22nm的技術(shù)節(jié)點(diǎn)上，光刻**一直在尋找新的技術(shù)，在沒有更好的新光刻技術(shù)出現(xiàn)前，兩次曝光技術(shù)（或者叫兩次成型技術(shù)，DPT）成為人們關(guān) 注 的 熱 點(diǎn)。ArF浸沒式兩次曝光技術(shù)已被業(yè)界認(rèn)為是32nm節(jié)點(diǎn)相當(dāng)有競(jìng)爭(zhēng)力的技術(shù)；在更低...

定焦鏡頭的好處，主要體現(xiàn)在短焦段的使用上：⒈定焦的廣角或標(biāo)準(zhǔn)鏡頭一般都比涵蓋相應(yīng)焦距段的變焦鏡頭口徑大。一般的定焦廣角和中焦鏡頭的光圈都在2.8以上，通光量大，便于在低照度情況下拍攝。定焦鏡頭⒉定焦的廣角鏡頭一般都比涵蓋相應(yīng)焦距段的變焦鏡頭**短對(duì)焦距離近。比...

后烘方法：熱板，110～130C,1分鐘。目的：a、減少駐波效應(yīng)；b、激發(fā)化學(xué)增強(qiáng)光刻膠的PAG產(chǎn)生的酸與光刻膠上的保護(hù)基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)并移除基團(tuán)使之能溶解于顯影液。顯影方法：a、整盒硅片浸沒式顯影（Batch Development）。缺點(diǎn)：顯影液消耗很大；顯影...

使用長(zhǎng)焦距鏡頭拍攝具有以下幾個(gè)方面的特點(diǎn)： [3]視角小所以，拍攝的景物空間范圍也小，在相同的拍攝距離處，所拍攝的影像大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭，適用于拍攝遠(yuǎn)處景物的細(xì)部和拍攝不易接近的被攝體 [3]。景深短所以，能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調(diào) 焦帶來了一...

我們建議攝影入門用戶在攝影學(xué)習(xí)階段，除了相機(jī)上已經(jīng)配備的套裝鏡頭之外，不必再購買任何鏡頭。以后成為“高手”時(shí)，再考慮較長(zhǎng)焦距的鏡頭。即使到那時(shí)，除非對(duì)遠(yuǎn)攝鏡頭具有特殊的需求，并且資金也不成問題，否則我們建議不要考慮超過200mm的任何鏡頭。如果偶爾需要遠(yuǎn)攝鏡頭...

定焦鏡頭（prime lens）是指只有一個(gè)固定焦距的鏡頭，沒有焦段一說，或者說只有一個(gè)視野。定焦鏡頭沒有變焦功能。 [1]定焦鏡頭的設(shè)計(jì)相對(duì)變焦鏡頭而言要簡(jiǎn)單得多，但一般變焦鏡頭在變焦過程中對(duì)成像會(huì)有所影響，而定焦鏡頭相對(duì)于變焦機(jī)器的比較大好處就是對(duì)焦速度快...

世界上***部糾偏裝置,英文：Deviation rectifying device，是美塞斯的FIFE糾發(fā)明的，是糾偏裝置是電子糾偏系統(tǒng)的心臟。糾偏裝置是一種修正卷材在向前運(yùn)動(dòng)中出現(xiàn)的側(cè)邊誤差的機(jī)械裝置，位移式糾偏是通過更改卷材在進(jìn)口和出口跨度來實(shí)現(xiàn)卷材側(cè)邊...

機(jī)械手關(guān)節(jié)減速機(jī)是一種通過電機(jī)驅(qū)動(dòng)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化角度調(diào)整的精密傳動(dòng)裝置，具有重復(fù)定位精度≤5秒的特點(diǎn)，適配AC伺服或步進(jìn)馬達(dá)。其穩(wěn)重承載能力和高精度特性使其廣泛應(yīng)用于精密加工機(jī)床、航太工業(yè)、半導(dǎo)體設(shè)備、印刷機(jī)械，食品包裝、自動(dòng)化產(chǎn)業(yè)、工業(yè)機(jī)器人、醫(yī)療檢驗(yàn)、精密測(cè)試...

舉例來說，對(duì)某一確定的被攝體，水平方向需要200個(gè)像素才能再現(xiàn)其細(xì)節(jié)，如果成像寬度為10mm，則光學(xué)分辨率為20線/mm的鏡頭就能勝任，如果成像寬度為1mm，則要求鏡頭的光學(xué)分辨率必須在200線/毫米以上。另一方面，傳統(tǒng)膠卷對(duì)紫外線比較敏感，外拍時(shí)常需要加裝U...

得指出的是，EUV光刻技術(shù)的研發(fā)始于20世紀(jì)80年代。**早希望在半周期為70nm的節(jié)點(diǎn)（對(duì)應(yīng)邏輯器件130nm節(jié)點(diǎn)）就能用上EUV光刻機(jī) [1]?？墒牵@一技術(shù)一直達(dá)不到晶圓廠量產(chǎn)光刻所需要的技術(shù)指標(biāo)和產(chǎn)能要求。一拖再拖，直到2016年，EUV光刻機(jī)仍然沒能...

已找到一個(gè)制造于5或6世紀(jì)拜占庭帝國，和一個(gè)日晷相連接的日期齒輪的殘?。辉搩x器可能是做為報(bào)時(shí)輔助。在**世界中，西元9世紀(jì)早期阿拉伯帝國的哈里發(fā)委托巴努·穆薩寫下的《巧妙設(shè)備之書》（Book of Ingenious Devices，暫譯）。該書描述了超過一百...

c、水坑（旋覆浸沒）式顯影（Puddle Development）。噴覆足夠（不能太多，**小化背面濕度）的顯影液到硅片表面，并形成水坑形狀（顯影液的流動(dòng)保持較低，以減少邊緣顯影速率的變化）。硅片固定或慢慢旋轉(zhuǎn)。一般采用多次旋覆顯影液：***次涂覆、保持10～...

至少有一個(gè)阿基米德制造的儀器相當(dāng)類似安提基特拉機(jī)械，而且直到大約西元前150年仍在使用。西塞羅提到的任何一個(gè)儀器或許并不是在沉船中找到的安提基特拉機(jī)械，因?yàn)榘⒒椎碌脑O(shè)計(jì)和西塞羅所提的都是在預(yù)測(cè)的船沉日期之后至少30年的羅馬，而且第三個(gè)儀器幾乎確定在當(dāng)時(shí)是在波...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯提出該裝置可能是公開展示，地點(diǎn)或許是羅德島上的博物館或公共會(huì)堂。羅德島在當(dāng)時(shí)是以機(jī)械工程聞名，尤其是羅德島人擅長(zhǎng)的自動(dòng)機(jī)械。古希臘九大抒情詩人中的品達(dá)在他的第七首奧林匹克頌中提及：The animated figures stand...

特點(diǎn)長(zhǎng)焦鏡頭以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的交換鏡頭為例，遠(yuǎn)攝鏡頭通常是指焦距約在80至400毫米之間的攝影鏡頭。遠(yuǎn)攝鏡頭**基本的特點(diǎn)是，鏡頭視角小，所以視野范圍相對(duì)狹窄；能把遠(yuǎn)處的景物拉近，使之充滿畫面，具有“望遠(yuǎn)”的功能，從而使景物的遠(yuǎn)近感消失；縮短了...

光刻系統(tǒng)是一種用于半導(dǎo)體器件制造的精密科學(xué)儀器，是制備高性能光電子和微電子器件不可或缺的**工藝設(shè)備 [1] [6-7]。其技術(shù)發(fā)展歷經(jīng)紫外（UV）、深紫外（DUV）到極紫外（EUV）階段，推動(dòng)集成電路制程不斷進(jìn)步 [3] [6]。當(dāng)前**的EUV光刻系統(tǒng)已實(shí)...

早在80年代，極紫外光刻技術(shù)就已經(jīng)開始理論的研究和初步的實(shí) 驗(yàn)，該技術(shù) 的光源是波 長(zhǎng) 為11～14 nm的極端遠(yuǎn)紫外光，其原理主要是利用曝光光源極短的波長(zhǎng)達(dá)到提高光刻技術(shù)分辨率的目的。由于所有的光學(xué)材料對(duì)該波長(zhǎng)的光有強(qiáng)烈的吸收，所以只能采取反射式的光路。EU...

浸沒式光刻技術(shù)所面臨的挑戰(zhàn)主要有：如何解決曝光中產(chǎn)生的氣泡和污染等缺陷的問題；研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1．8的光刻膠的問題；研發(fā)折射率較大的光學(xué)鏡頭材料和浸沒液體材料；以 及 有 效 數(shù) 值 孔 徑NA值 的 拓 展 等 問題。針 對(duì) 這 些 難 ...

光學(xué)變焦是通過鏡頭、物體和焦點(diǎn)三方的位置發(fā)生變化而產(chǎn)生的。當(dāng)成像面在水平方向運(yùn)動(dòng)的時(shí)候，視覺和焦距就會(huì)發(fā)生變化，更遠(yuǎn)的景物變得更清晰，讓人感覺像物體遞進(jìn)的感覺。顯而易見，要改變視角必然有兩種辦法，一種是改變鏡頭的焦距。用攝影的話來說，這就是光學(xué)變焦。通過改變變...

主要流程光復(fù)印工藝的主要流程如圖2：曝光方式常用的曝光方式分類如下：接觸式曝光和非接觸式曝光的區(qū)別，在于曝光時(shí)掩模與晶片間相對(duì)關(guān)系是貼緊還是分開。接觸式曝光具有分辨率高、復(fù)印面積大、復(fù)印精度好、曝光設(shè)備簡(jiǎn)單、操作方便和生產(chǎn)效率高等特點(diǎn)。但容易損傷和沾污掩模版和...

對(duì)于新影像的進(jìn)一步研究促使萊特提出新看法。首先他將普萊斯的模式進(jìn)一步發(fā)展，認(rèn)為該儀器相當(dāng)于一個(gè)天象儀。萊特的天象儀不只可模擬日月運(yùn)動(dòng)，還可顯示內(nèi)側(cè)行星（水星和金星）和外側(cè)行星（火星、木星和土星）的運(yùn)動(dòng)。萊特提出該機(jī)械的日月運(yùn)動(dòng)是基于喜帕恰斯的理論，五顆古典行星...

b、堅(jiān)膜，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護(hù)下表面的能力；c、進(jìn)一步增強(qiáng)光刻膠與硅片表面之間的黏附性；d、進(jìn)一步減少駐波效應(yīng)（Standing Wave Effect）。常見問題：a、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強(qiáng)度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻...