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2006年時(shí)，萊特完成了他相信幾乎正確的復(fù)制品。萊特和安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃成員仍同時(shí)進(jìn)行安提基特拉機(jī)械的研究。萊特稍微修改他的模型，引進(jìn)了計(jì)劃團(tuán)隊(duì)建議的針狀和槽狀嚙合齒輪，這更精確模擬了月球的角速度異常變化。2007年3月6日他在希臘的雅典國(guó)家考古博物館展示...

使用長(zhǎng)焦鏡頭拍攝時(shí)，測(cè)光比較好采用機(jī)內(nèi)TTL測(cè)光方式。因?yàn)?，普通的入射式或反射式測(cè)光表的受光角往往大于鏡頭視角，直接按測(cè)光表數(shù)值曝光會(huì)出現(xiàn)偏差 [6]。1、使用較高快門速度高速快門可以降低或避免相機(jī)抖動(dòng)造成的圖像發(fā)虛。尤其是手持相機(jī)時(shí)，應(yīng)首先考慮通過提高快門速...

掃描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工藝；掩膜板1：1，全尺寸；步進(jìn)重復(fù)投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或稱作Stepper）。80年代末～90年代...

由測(cè)量系統(tǒng)、指示部分和表殼部分等組成。2.測(cè)量系統(tǒng)——由接頭，彈簧管和齒輪轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)等組成。3.由被測(cè)介質(zhì)的壓力作用，使彈簧管的末端（自由端）相應(yīng)地產(chǎn)生位移，借助連桿帶動(dòng)機(jī)構(gòu)中的扇形齒輪產(chǎn)生一角位移，而使齒輪軸得以偏轉(zhuǎn)——傳給指示部分。4.指示部分——由分度盤、...

入門的定焦鏡頭當(dāng)然以50為優(yōu)先。古典的三鏡組合是這樣子的：35、50、135，有了這三個(gè)鏡頭，足可應(yīng)付大多數(shù)的場(chǎng)合需要。日后若有需要，再作擴(kuò)充。定焦鏡頭另外提供幾個(gè)不同的組合給大家參考。愛拍風(fēng)景的人可以考慮的三鏡組合為24、35（用35代替50）、135。愛拍...

38、卸料螺釘卸料螺釘是固定在彈壓卸料板上的螺釘，用于限制彈壓卸料板的靜止位置。39、單工序模單工序模是在壓力機(jī)一次行程中只完成一道工序的沖模。40、廢料切刀廢料切刀有兩種。1．裝于拉深件凸緣切邊模上用于割斷整圈切邊廢料以利***的切刀。2．裝于壓力機(jī)或模具上...

糾偏裝置（Deviation rectifying device）是由美國(guó)美塞斯公司旗下FIFE品牌于1898年發(fā)明的機(jī)械裝置，主要用于修正卷材在傳輸過程中產(chǎn)生的橫向偏移。作為工業(yè)生產(chǎn)中的基礎(chǔ)設(shè)備，其通過傳感器檢測(cè)與驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)聯(lián)動(dòng)形成閉環(huán)控制，支持跟邊、對(duì)中、跟...

25.模墊拆卸分解及清潔檢查各磨耗面與重新涂抹潤(rùn)滑脂后組裝試車.1、沖床工必須經(jīng)過學(xué)習(xí)，掌握沖床的結(jié)構(gòu)、性能，熟悉操作規(guī)程并取得操作許可方可**操作。2、正確使用沖床上安全保護(hù)和控制裝置，不得任意拆動(dòng)。3、檢查沖床各傳動(dòng)、連接、潤(rùn)滑等部位及防護(hù)保險(xiǎn)裝置是否正常...

22、壓料檻壓料檻是斷面呈矩形的壓料筋特稱。參閱“壓料筋”。23、承料板承料板是用于接長(zhǎng)凹模上平面，承托沖壓材料的板狀零件。24、連續(xù)模連續(xù)模是具有兩個(gè)或更多工位的沖模，材料隨壓力機(jī)行程逐次送進(jìn)一工位，從而使沖件逐步成形。25、側(cè)刃側(cè)刃是在條（帶、卷）料側(cè)面切...

涂底方法：a、氣相成底膜的熱板涂底。HMDS蒸氣淀積，200～250C,30秒鐘；優(yōu)點(diǎn)：涂底均勻、避免顆粒污染；b、旋轉(zhuǎn)涂底。缺點(diǎn)：顆粒污染、涂底不均勻、HMDS用量大。目的：使表面具有疏水性，增強(qiáng)基底表面與光刻膠的黏附性旋轉(zhuǎn)涂膠方法：a、靜態(tài)涂膠（Stati...

入門的定焦鏡頭當(dāng)然以50為優(yōu)先。古典的三鏡組合是這樣子的：35、50、135，有了這三個(gè)鏡頭，足可應(yīng)付大多數(shù)的場(chǎng)合需要。日后若有需要，再作擴(kuò)充。定焦鏡頭另外提供幾個(gè)不同的組合給大家參考。愛拍風(fēng)景的人可以考慮的三鏡組合為24、35（用35代替50）、135。愛拍...

定焦鏡頭（prime lens）是指只有一個(gè)固定焦距的鏡頭，沒有焦段一說，或者說只有一個(gè)視野。定焦鏡頭沒有變焦功能。 [1]定焦鏡頭的設(shè)計(jì)相對(duì)變焦鏡頭而言要簡(jiǎn)單得多，但一般變焦鏡頭在變焦過程中對(duì)成像會(huì)有所影響，而定焦鏡頭相對(duì)于變焦機(jī)器的比較大好處就是對(duì)焦速度快...

世界上***部糾偏裝置,英文：Deviation rectifying device，是美塞斯的FIFE糾發(fā)明的，是糾偏裝置是電子糾偏系統(tǒng)的心臟。糾偏裝置是一種修正卷材在向前運(yùn)動(dòng)中出現(xiàn)的側(cè)邊誤差的機(jī)械裝置，位移式糾偏是通過更改卷材在進(jìn)口和出口跨度來實(shí)現(xiàn)卷材側(cè)邊...

機(jī)械手關(guān)節(jié)減速機(jī)是一種通過電機(jī)驅(qū)動(dòng)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化角度調(diào)整的精密傳動(dòng)裝置，具有重復(fù)定位精度≤5秒的特點(diǎn)，適配AC伺服或步進(jìn)馬達(dá)。其穩(wěn)重承載能力和高精度特性使其廣泛應(yīng)用于精密加工機(jī)床、航太工業(yè)、半導(dǎo)體設(shè)備、印刷機(jī)械，食品包裝、自動(dòng)化產(chǎn)業(yè)、工業(yè)機(jī)器人、醫(yī)療檢驗(yàn)、精密測(cè)試...

舉例來說，對(duì)某一確定的被攝體，水平方向需要200個(gè)像素才能再現(xiàn)其細(xì)節(jié)，如果成像寬度為10mm，則光學(xué)分辨率為20線/mm的鏡頭就能勝任，如果成像寬度為1mm，則要求鏡頭的光學(xué)分辨率必須在200線/毫米以上。另一方面，傳統(tǒng)膠卷對(duì)紫外線比較敏感，外拍時(shí)常需要加裝U...

得指出的是，EUV光刻技術(shù)的研發(fā)始于20世紀(jì)80年代。**早希望在半周期為70nm的節(jié)點(diǎn)（對(duì)應(yīng)邏輯器件130nm節(jié)點(diǎn)）就能用上EUV光刻機(jī) [1]?？墒牵@一技術(shù)一直達(dá)不到晶圓廠量產(chǎn)光刻所需要的技術(shù)指標(biāo)和產(chǎn)能要求。一拖再拖，直到2016年，EUV光刻機(jī)仍然沒能...

已找到一個(gè)制造于5或6世紀(jì)拜占庭帝國(guó)，和一個(gè)日晷相連接的日期齒輪的殘?。辉搩x器可能是做為報(bào)時(shí)輔助。在**世界中，西元9世紀(jì)早期阿拉伯帝國(guó)的哈里發(fā)委托巴努·穆薩寫下的《巧妙設(shè)備之書》（Book of Ingenious Devices，暫譯）。該書描述了超過一百...

c、水坑（旋覆浸沒）式顯影（Puddle Development）。噴覆足夠（不能太多，**小化背面濕度）的顯影液到硅片表面，并形成水坑形狀（顯影液的流動(dòng)保持較低，以減少邊緣顯影速率的變化）。硅片固定或慢慢旋轉(zhuǎn)。一般采用多次旋覆顯影液：***次涂覆、保持10～...

至少有一個(gè)阿基米德制造的儀器相當(dāng)類似安提基特拉機(jī)械，而且直到大約西元前150年仍在使用。西塞羅提到的任何一個(gè)儀器或許并不是在沉船中找到的安提基特拉機(jī)械，因?yàn)榘⒒椎碌脑O(shè)計(jì)和西塞羅所提的都是在預(yù)測(cè)的船沉日期之后至少30年的羅馬，而且第三個(gè)儀器幾乎確定在當(dāng)時(shí)是在波...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯提出該裝置可能是公開展示，地點(diǎn)或許是羅德島上的博物館或公共會(huì)堂。羅德島在當(dāng)時(shí)是以機(jī)械工程聞名，尤其是羅德島人擅長(zhǎng)的自動(dòng)機(jī)械。古希臘九大抒情詩人中的品達(dá)在他的第七首奧林匹克頌中提及：The animated figures stand...

特點(diǎn)長(zhǎng)焦鏡頭以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的交換鏡頭為例，遠(yuǎn)攝鏡頭通常是指焦距約在80至400毫米之間的攝影鏡頭。遠(yuǎn)攝鏡頭**基本的特點(diǎn)是，鏡頭視角小，所以視野范圍相對(duì)狹窄；能把遠(yuǎn)處的景物拉近，使之充滿畫面，具有“望遠(yuǎn)”的功能，從而使景物的遠(yuǎn)近感消失；縮短了...

光刻系統(tǒng)是一種用于半導(dǎo)體器件制造的精密科學(xué)儀器，是制備高性能光電子和微電子器件不可或缺的**工藝設(shè)備 [1] [6-7]。其技術(shù)發(fā)展歷經(jīng)紫外（UV）、深紫外（DUV）到極紫外（EUV）階段，推動(dòng)集成電路制程不斷進(jìn)步 [3] [6]。當(dāng)前**的EUV光刻系統(tǒng)已實(shí)...

早在80年代，極紫外光刻技術(shù)就已經(jīng)開始理論的研究和初步的實(shí) 驗(yàn)，該技術(shù) 的光源是波 長(zhǎng) 為11～14 nm的極端遠(yuǎn)紫外光，其原理主要是利用曝光光源極短的波長(zhǎng)達(dá)到提高光刻技術(shù)分辨率的目的。由于所有的光學(xué)材料對(duì)該波長(zhǎng)的光有強(qiáng)烈的吸收，所以只能采取反射式的光路。EU...

浸沒式光刻技術(shù)所面臨的挑戰(zhàn)主要有：如何解決曝光中產(chǎn)生的氣泡和污染等缺陷的問題；研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1．8的光刻膠的問題；研發(fā)折射率較大的光學(xué)鏡頭材料和浸沒液體材料；以 及 有 效 數(shù) 值 孔 徑NA值 的 拓 展 等 問題。針 對(duì) 這 些 難 ...

光學(xué)變焦是通過鏡頭、物體和焦點(diǎn)三方的位置發(fā)生變化而產(chǎn)生的。當(dāng)成像面在水平方向運(yùn)動(dòng)的時(shí)候，視覺和焦距就會(huì)發(fā)生變化，更遠(yuǎn)的景物變得更清晰，讓人感覺像物體遞進(jìn)的感覺。顯而易見，要改變視角必然有兩種辦法，一種是改變鏡頭的焦距。用攝影的話來說，這就是光學(xué)變焦。通過改變變...

主要流程光復(fù)印工藝的主要流程如圖2：曝光方式常用的曝光方式分類如下：接觸式曝光和非接觸式曝光的區(qū)別，在于曝光時(shí)掩模與晶片間相對(duì)關(guān)系是貼緊還是分開。接觸式曝光具有分辨率高、復(fù)印面積大、復(fù)印精度好、曝光設(shè)備簡(jiǎn)單、操作方便和生產(chǎn)效率高等特點(diǎn)。但容易損傷和沾污掩模版和...

對(duì)于新影像的進(jìn)一步研究促使萊特提出新看法。首先他將普萊斯的模式進(jìn)一步發(fā)展，認(rèn)為該儀器相當(dāng)于一個(gè)天象儀。萊特的天象儀不只可模擬日月運(yùn)動(dòng)，還可顯示內(nèi)側(cè)行星（水星和金星）和外側(cè)行星（火星、木星和土星）的運(yùn)動(dòng)。萊特提出該機(jī)械的日月運(yùn)動(dòng)是基于喜帕恰斯的理論，五顆古典行星...

b、堅(jiān)膜，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護(hù)下表面的能力；c、進(jìn)一步增強(qiáng)光刻膠與硅片表面之間的黏附性；d、進(jìn)一步減少駐波效應(yīng)（Standing Wave Effect）。常見問題：a、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強(qiáng)度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻...

b、接近式曝光（Proximity Printing）。掩膜板與光刻膠層的略微分開，大約為10～50μm?？梢员苊馀c光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷。但是同時(shí)引入了衍射效應(yīng)，降低了分辨率。1970后適用，但是其最大分辨率*為2～4μm。c、投影式曝光（Proj...

準(zhǔn)分子光刻技術(shù)作為當(dāng)前主流的光刻技術(shù)，主要包括：特征尺寸為0．1μm的248 nm KrF準(zhǔn)分子激光技術(shù)；特征尺寸為90 nm的193 nm ArF準(zhǔn)分子激光技術(shù)；特征尺寸為65 nm的193 nm ArF浸沒式技術(shù)（Immersion，193i）。其中193...