在眾多精密環(huán)控設(shè)備供應(yīng)商中，極測(cè)（南京）技術(shù)有限公司值得關(guān)注。作為南京拓展科技旗下企業(yè)，極測(cè)（南京）憑借深厚的技術(shù)沉淀與持續(xù)的創(chuàng)新熱忱，在行業(yè)內(nèi)嶄露頭角。該公司擁有結(jié)合全場(chǎng)景非標(biāo)定制能力，可滿足用戶不同環(huán)境參數(shù)及使用需求，涵蓋溫濕度穩(wěn)定性、潔凈度，抗微振、防磁、隔音等個(gè)性化需求。其研發(fā)的精密環(huán)控柜蕞高可實(shí)現(xiàn)±0.002℃高精密溫度控制，以及潔凈度十級(jí)的潔凈環(huán)境，已成功為光刻機(jī)、激光干涉儀等精密儀器提供穩(wěn)定工作環(huán)境，服務(wù)了多家全球半導(dǎo)體、通信設(shè)備、顯示面板企業(yè)與國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。 因此，光學(xué)儀器行業(yè)通常要求潔凈室或無(wú)塵室的潔凈度達(dá)到一定的標(biāo)準(zhǔn)，如千級(jí)、萬(wàn)級(jí)或十萬(wàn)級(jí)凈化標(biāo)準(zhǔn)。陜西0.01精密溫控

精密環(huán)境受到多種因素的影響。溫度波動(dòng)會(huì)導(dǎo)致儀器設(shè)備、被測(cè)樣品等產(chǎn)生形變，影響空氣對(duì)光的折射波動(dòng)；濕度波動(dòng)會(huì)影響空氣折射率，濕度過(guò)高還易造成電器故障；二氧化碳濃度、壓力梯度波動(dòng)會(huì)影響空氣折射率；微振動(dòng)會(huì)造成儀器設(shè)備等抖動(dòng)，影響光路；電磁干擾、接地電阻過(guò)大會(huì)影響儀器設(shè)備正常工作。
極測(cè)（南京）技術(shù)有限公司針對(duì)不同環(huán)境控制需求，提供了完善的解決方案。普通環(huán)境控制需求溫度控制精度為 ±2℃，濕度控制精度為 ±5~15%，潔凈度等級(jí)為十萬(wàn)級(jí)到百級(jí)，采用恒溫恒濕超凈間；精密環(huán)境控制需求溫度控制精度為 ±0.5~1℃，濕度控制精度為 ±2~5%，潔凈度等級(jí)為萬(wàn)級(jí)到百級(jí)，采用精密恒溫恒濕超凈間；高精密環(huán)境控制需求溫度控制精度為 ±0.1~0.3℃，濕度控制精度為 ±2~5%，潔凈度等級(jí)為千級(jí)到百級(jí)，采用高精密恒溫恒濕超凈間；超精密環(huán)境控制需求溫度控制精度為 ±0.002~0.1℃，濕度控制精度為 ±1~5%，潔凈度等級(jí)為百級(jí)到十級(jí)，在高精密恒溫恒濕超凈間中搭建精密環(huán)控系統(tǒng)，同時(shí)氣流 / 風(fēng)速 / 壓差控制、CO?濃度調(diào)節(jié)、噪音控制、環(huán)境參數(shù)閉環(huán)控制。
步入式精密溫控控制系統(tǒng)系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)蕞高ISO Class 1級(jí)的潔凈環(huán)境（每立方米≥0.1μm顆粒物≤10個(gè)）。

極測(cè)的精密溫控箱罩專為滿足三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x等精密設(shè)備的嚴(yán)苛環(huán)境需求而設(shè)計(jì)。其具備的 ±0.002℃高精密溫度控制能力，猶如為三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x構(gòu)建了一個(gè)恒溫 “堡壘”。精密溫控箱罩運(yùn)用自主研發(fā)的高精密控溫技術(shù)，確保精密溫控箱罩內(nèi)部溫度穩(wěn)定性關(guān)鍵區(qū)域可達(dá) +/-2mK（靜態(tài)），溫度水平均勻性小于 16mK/m。保證測(cè)量?jī)x在長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行過(guò)程中始終保持穩(wěn)定的測(cè)量精度，實(shí)現(xiàn)0.1% 的控制輸出精度。除了溫度控制，精密溫控箱罩在濕度和潔凈度方面同樣表現(xiàn)。精密溫控箱罩內(nèi)部濕度穩(wěn)定性可達(dá) ±0.5%@8h，避免了因濕度問(wèn)題導(dǎo)致的測(cè)量?jī)x零部件生銹、電子元件短路等故障，延長(zhǎng)了設(shè)備使用壽命。同時(shí)，該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)百級(jí)以上潔凈度控制，內(nèi)部潔凈度蕞高可優(yōu)于 ISO class3（設(shè)備工作區(qū)），有效防止灰塵等微小顆粒附著在測(cè)量?jī)x的光學(xué)部件或被測(cè)工件表面，避免對(duì)測(cè)量精度造成干擾。

高精密環(huán)控柜由我司自主研發(fā)，是一款精密環(huán)境控制產(chǎn)品，可實(shí)現(xiàn)ISOClass1-6級(jí)潔凈度，以及±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.002℃等不同精度的溫度波動(dòng)控制。擁有全場(chǎng)景非標(biāo)定制能力，能針對(duì)用戶的個(gè)性化需求（如溫濕度穩(wěn)定性、潔凈度、抗微振、防磁、隔音等）提供解決方案。設(shè)備運(yùn)行數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)記錄查詢，且配備自動(dòng)安全保護(hù)系統(tǒng)，確保長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行無(wú)憂。其構(gòu)成部分包括設(shè)備主柜體、控制系統(tǒng)、氣流循環(huán)系統(tǒng)、潔凈過(guò)濾器、制冷（熱）系統(tǒng)、照明系統(tǒng)、局部氣浴等，主要為光刻機(jī)、激光干涉儀等精密測(cè)量與制造設(shè)備，提供超高精度的溫濕度及潔凈度工作環(huán)境。濕度控制采用 “外環(huán)境保證相對(duì)濕度、大環(huán)境穩(wěn)定絕dui含濕量” 的方式，通過(guò)精確控溫實(shí)現(xiàn)環(huán)境倉(cāng)內(nèi)部濕度穩(wěn)定。為達(dá)成溫濕度及潔凈度要求，采用大風(fēng)量小溫差設(shè)計(jì)，通過(guò)空氣快速循環(huán)過(guò)濾帶走余熱，使溫度波動(dòng)保持在極低數(shù)值（關(guān)鍵區(qū)域 ±0.002℃）；并通過(guò)多級(jí)控溫（先經(jīng)表冷盤降溫，再由多級(jí)電加熱逐步升溫），將溫度精度從 ±0.1℃升級(jí)至 ±0.002℃。半導(dǎo)體潔凈室中通常溫度需要嚴(yán)格控制在20°C至25°C范圍內(nèi)，且溫度波動(dòng)不能超過(guò)±1°C。

半導(dǎo)體制造：光刻工藝的“守護(hù)神”在芯片光刻環(huán)節(jié)，溫度波動(dòng)Jin0.1℃就足以導(dǎo)致光學(xué)元件熱變形，造成曝光位置漂移。極測(cè)精密溫控設(shè)備提供的±0.002℃恒溫環(huán)境，使光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)保持穩(wěn)定，直接提升芯片良品率。在蝕刻工藝中，溫濕度波動(dòng)可能引發(fā)刻蝕過(guò)度或不足。精密溫控設(shè)備提供的穩(wěn)定環(huán)境保障了刻蝕速率的均勻性，確保芯片電路完整性。航空航天：微米級(jí)精度的幕后功臣航空發(fā)動(dòng)機(jī)渦輪葉片加工中，0.05℃的溫度波動(dòng)可能導(dǎo)致機(jī)床熱變形，使葉片加工精度不達(dá)標(biāo)。極測(cè)精密溫控設(shè)備維持的恒溫環(huán)境，保障了葉片曲面精度和表面質(zhì)量。在航空航天材料測(cè)試環(huán)節(jié)，設(shè)備將濕度波動(dòng)精確控制在±2%RH內(nèi)，滿足極端嚴(yán)苛的測(cè)試要求。光學(xué)儀器：純凈與穩(wěn)定的雙重保障在光學(xué)鏡片研磨中，溫度波動(dòng)會(huì)導(dǎo)致研磨盤與鏡片材料熱膨脹系數(shù)差異，影響鏡片曲率精度。恒溫環(huán)境確保研磨精度穩(wěn)定。同時(shí)，潔凈環(huán)境防止鏡片表面污染，避免后續(xù)鍍膜工序產(chǎn)生缺陷。新能源電池：水分與溫度的雙重管控在電極涂布工藝中，濕度變化會(huì)影響漿料水分含量，導(dǎo)致涂布不均勻。極測(cè)精密溫控設(shè)備提供的±0.5%RH濕度穩(wěn)定性，確保電極涂布一致性。在電池組裝環(huán)節(jié)，恒溫環(huán)境避免了不同材料熱脹冷縮差異導(dǎo)致的密封不良問(wèn)題。控溫精度：提供業(yè)界前列的 ±0.002℃高精密溫度控制能力，溫度水平均勻性嚴(yán)格控制在 <16mK/m 范圍內(nèi)。0.02精密溫控平臺(tái)

極測(cè)（南京）高精密環(huán)境控制設(shè)備已實(shí)現(xiàn)蕞高溫控精度±0.002℃，潔凈度十級(jí)以上。陜西0.01精密溫控

在中國(guó)，隨著制造業(yè)的快速發(fā)展和產(chǎn)業(yè)升級(jí)，半導(dǎo)體、航空航天、生物醫(yī)藥等領(lǐng)域?qū)Ω呔墉h(huán)境控制設(shè)備的需求急劇增長(zhǎng)。據(jù)市場(chǎng)研究機(jī)構(gòu)QYResearch預(yù)測(cè)，全球高精密環(huán)境控制設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)在未來(lái)五年內(nèi)將以年均超過(guò)8%的復(fù)合增長(zhǎng)率增長(zhǎng)，到2028年將達(dá)到數(shù)十億美元規(guī)模。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，隨著工藝向更高精度邁進(jìn)，2nm工藝要求溫度控制精度從±0.1℃提升至±2mK，全球晶圓廠每年在溫度控制設(shè)備上的投入超過(guò)50億美元；光電光學(xué)領(lǐng)域，高duan光學(xué)顯微鏡、量子光學(xué)實(shí)驗(yàn)等對(duì)溫度控制精度要求極高；量子計(jì)算領(lǐng)域，量子比特對(duì)溫度極為敏感，高精密環(huán)控艙是必需設(shè)備，未來(lái)5年需求可能呈指數(shù)級(jí)增長(zhǎng)。同時(shí)，各國(guó)產(chǎn)業(yè)政策也推動(dòng)了高精密環(huán)境控制設(shè)備市場(chǎng)的發(fā)展。美國(guó)《芯片與科學(xué)法案》、歐盟“歐洲量子旗艦計(jì)劃”、中國(guó)《十四五集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃》等政策的出臺(tái)，為行業(yè)發(fā)展提供了良好的政策環(huán)境和資金支持。
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