\"集勢(shì)領(lǐng)航,寶鷺飛揚(yáng)\"集寶第七屆經(jīng)銷商大會(huì)圓滿成功
集寶亮相2024別墅設(shè)計(jì)及技術(shù)發(fā)展大會(huì),別墅安全新風(fēng)尚
國(guó)際百年品牌集寶亮相進(jìn)博會(huì),全球矚目展風(fēng)采
集策共贏,寶藏大理!
黃金強(qiáng)勢(shì)直上,集寶受邀參展,攜手為高中產(chǎn)人群保駕護(hù)航!
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英國(guó)集寶 第四屆零售經(jīng)銷商大會(huì) 亮彩回顧
2020 集寶在家 有我放心
世界三 大光刻機(jī) 生產(chǎn)商ASML,Nikon和Cannon的*** 代 浸 沒(méi) 式 光 刻 機(jī) 樣 機(jī) 都 是 在 原 有193nm干式光刻機(jī)的基礎(chǔ)上改進(jìn)研制而成,**降低了研發(fā)成本和風(fēng)險(xiǎn)。因?yàn)榻](méi)式光刻系統(tǒng)的原理清晰而且配合現(xiàn)有的光刻技術(shù)變動(dòng)不大,目前193...
介紹04:54新型DUV光刻機(jī)公布,套刻精度達(dá)8納米!與全球前列設(shè)備差多少?直接分步重復(fù)曝光系統(tǒng) (DSW) 超大規(guī)模集成電路需要有高分辨率、高套刻精度和大直徑晶片加工。直接分步重復(fù)曝光系統(tǒng)是為適應(yīng)這些相互制約的要求而發(fā)展起來(lái)的光學(xué)曝光系統(tǒng)。主要技術(shù)特點(diǎn)是:...
● 儀表盤面為MPa刻度值直接讀取● 精度等級(jí)0.25% 0.4%● 雙層鏡面表盤● 設(shè)有度盤調(diào)零裝置● 鐵噴塑表殼● 銅合金內(nèi)機(jī)部件● 測(cè)量范圍-0.1至60MPa 外型尺寸示意圖精密壓力表的測(cè)量范圍分類:1.微壓表(指儀表測(cè)量上限值小于0.1MPa的儀表)...
長(zhǎng)焦距鏡頭是指比標(biāo)準(zhǔn)鏡頭的焦距長(zhǎng)的攝影鏡頭。長(zhǎng)焦距鏡頭分為普通遠(yuǎn)攝鏡頭和超遠(yuǎn)攝鏡頭兩類。普通遠(yuǎn)攝鏡頭的焦距長(zhǎng)度接近標(biāo)準(zhǔn)鏡頭,而超遠(yuǎn)攝鏡頭的焦距卻遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭。以135照相機(jī)為例,其鏡頭焦距從85毫米-300毫米的攝影鏡頭為普通遠(yuǎn)攝鏡頭,300毫米以上的為超...
06:28已經(jīng)確認(rèn)!2000年前的計(jì)算機(jī),安提基特拉機(jī)械安提基特拉機(jī)械是世界上已知**早的齒輪裝置。自從發(fā)現(xiàn)以來(lái)一直讓科學(xué)史和技術(shù)史**好奇又疑惑。數(shù)個(gè)個(gè)人或團(tuán)隊(duì)研究已經(jīng)對(duì)其機(jī)制有更進(jìn)一步了解。主要研究人員有:首先研究它的德國(guó)語(yǔ)言學(xué)家阿爾伯特·雷姆、德瑞克·約...
46、墊板墊板是介于固定板(或凹模)與模座間的淬硬板狀零件,用以減低模座承受的單位壓縮應(yīng)力。A.每使用1500-2000小時(shí)維護(hù)保養(yǎng)應(yīng)執(zhí)行項(xiàng)目:1.滑潤(rùn)油脂吐出油量及壓力檢知功能測(cè)試與調(diào)整.2.空氣系統(tǒng)之濾清器,給油器調(diào)整閥等功能及水份雜質(zhì)測(cè)試檢查與必要調(diào)整....
校準(zhǔn)的基本要求校準(zhǔn)應(yīng)滿足的基本要求如下:1.環(huán)境條件校準(zhǔn)如在檢定(校準(zhǔn))室進(jìn)行,則環(huán)境條件應(yīng)滿足實(shí)驗(yàn)室要求的溫度、濕度等規(guī)定。校準(zhǔn)如在現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行,則環(huán)境條件以能滿足儀表現(xiàn)場(chǎng)使用的條件為準(zhǔn)。2.儀器作為校準(zhǔn)用的標(biāo)準(zhǔn)儀器其誤差限應(yīng)是被校表誤差限的1/3~1/10。3...
廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機(jī)普通廣角鏡頭的焦距一般為38-24毫米,視角為60-84度;超廣角鏡頭的焦距為20-13毫米,視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短,視角大,在較短的拍攝距離范圍內(nèi),能拍攝到較大面積的景物。所以,**...
涂底方法:a、氣相成底膜的熱板涂底。HMDS蒸氣淀積,200~250C,30秒鐘;優(yōu)點(diǎn):涂底均勻、避免顆粒污染;b、旋轉(zhuǎn)涂底。缺點(diǎn):顆粒污染、涂底不均勻、HMDS用量大。目的:使表面具有疏水性,增強(qiáng)基底表面與光刻膠的黏附性旋轉(zhuǎn)涂膠方法:a、靜態(tài)涂膠(Stati...
放大率問(wèn)題:光學(xué)鏡頭放大率問(wèn)題,很多客戶可能對(duì)鏡頭放大率不了解或者認(rèn)識(shí)不多,所以造成了對(duì)鏡頭使用的錯(cuò)誤操作或者選購(gòu)不到合適的鏡頭,因此,普密斯光學(xué)針對(duì)這一問(wèn)題進(jìn)行專業(yè)的講述,希望可以幫助大家更好的理解鏡頭參數(shù)問(wèn)題。放 大 率 光學(xué)放大率影像大小相對(duì)于物體的放大...
25.模墊拆卸分解及清潔檢查各磨耗面與重新涂抹潤(rùn)滑脂后組裝試車.1、沖床工必須經(jīng)過(guò)學(xué)習(xí),掌握沖床的結(jié)構(gòu)、性能,熟悉操作規(guī)程并取得操作許可方可**操作。2、正確使用沖床上安全保護(hù)和控制裝置,不得任意拆動(dòng)。3、檢查沖床各傳動(dòng)、連接、潤(rùn)滑等部位及防護(hù)保險(xiǎn)裝置是否正常...
電子束光刻基本上分兩大類,一類是大生產(chǎn)光掩模版制造的電子束曝光系統(tǒng),另一類是直接在基片上直寫納米級(jí)圖形的電子束光刻系統(tǒng)。電子束光刻技術(shù)起源于掃描電鏡,**早由德意志聯(lián)邦共和國(guó)杜平根大學(xué)的G.Mollenstedt等人在20世紀(jì)60年代提出。電子束曝光的波長(zhǎng)取決...
精密壓力表由測(cè)壓系統(tǒng)、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、指示裝置和外殼組成。精密壓力表的測(cè)壓彈性元件經(jīng)特殊工藝處理,使精密壓力表性能穩(wěn)定可靠,與高精度的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)配套調(diào)試后,能確保精確的指示精度。精密壓力表主要用來(lái)校驗(yàn)工業(yè)用普通壓力表,精密壓力表也可在工藝現(xiàn)場(chǎng)精確的測(cè)量對(duì)銅合金和合金結(jié)...
基于更多暫定的觀察結(jié)果,萊特也認(rèn)為儀器后面下方的轉(zhuǎn)盤是計(jì)算交點(diǎn)月,是用來(lái)預(yù)測(cè)日月食的。所有的研究結(jié)果都已經(jīng)納入萊特的模式,并且可制造一個(gè)擁有以上機(jī)制的機(jī)器并成功運(yùn)作。盡管有高分辨率的線性斷層掃描造影,萊特仍然無(wú)法將所有已知的齒輪調(diào)整進(jìn)一個(gè)單一的機(jī)制,這使得他更...
2.該機(jī)械有一個(gè)刻上至少2000個(gè)字母的蓋子,因此安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃的人員經(jīng)常認(rèn)為這是儀器說(shuō)明書。這**是為了便于攜帶和個(gè)人使用。3.“說(shuō)明書”的存在**該裝置是科學(xué)家和工程師設(shè)計(jì)作為非專業(yè)的旅行者使用。(記載文字有許多關(guān)于地中海的地理位置資訊)該機(jī)械不太...
e、光刻膠厚度控片(PhotoResist Thickness MC):光刻膠厚度測(cè)量;f、光刻缺陷控片(PDM,Photo Defect Monitor):光刻膠缺陷監(jiān)控。舉例:0.18μm的CMOS掃描步進(jìn)光刻工藝。光源:KrF氟化氪DUV光源(248nm...
***,安提基特拉機(jī)械前方面板是現(xiàn)代天文年鑒的前身(Parapegma),可以設(shè)定標(biāo)記特定恒星的升起。一般認(rèn)為每顆恒星都以機(jī)械上一個(gè)希臘文字母做標(biāo)記。在機(jī)械后面上方的轉(zhuǎn)盤是螺旋形,每次旋轉(zhuǎn)分成47個(gè)部分,**19年或235個(gè)朔望月的默冬章。該循環(huán)對(duì)于歷法修正很...
光致抗蝕劑,簡(jiǎn)稱光刻膠或抗蝕劑,指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑:受光照部分發(fā)生降解反應(yīng)而能為顯影液所溶解。留下的非曝光部分的圖形與掩模版一致。正性抗蝕劑具有分辨率高、對(duì)駐波效應(yīng)不敏感、曝光容限大、***密度低和無(wú)毒性等...
更精確的齒輪齒數(shù)此時(shí)也已得知,因此可進(jìn)一步發(fā)展新的齒輪配置模式。更正確的資訊允許萊特可以確認(rèn)普萊斯建議的后方面板的上方轉(zhuǎn)盤是顯示235個(gè)朔望月,分成五個(gè)旋轉(zhuǎn)量度的默冬章。此外,萊特還提出了驚人的看法,他認(rèn)為儀器后面的上方轉(zhuǎn)盤是每次旋轉(zhuǎn)包含47個(gè)部分,總共五個(gè)旋...
準(zhǔn)分子光刻技術(shù)作為當(dāng)前主流的光刻技術(shù),主要包括:特征尺寸為0.1μm的248 nm KrF準(zhǔn)分子激光技術(shù);特征尺寸為90 nm的193 nm ArF準(zhǔn)分子激光技術(shù);特征尺寸為65 nm的193 nm ArF浸沒(méi)式技術(shù)(Immersion,193i)。其中193...
2005年,X射線檢測(cè)提供了關(guān)鍵的線索——?dú)埰瑑?nèi)部隱藏了數(shù)千個(gè)一直都未曾被閱讀的字符。雷姆在1905年到1906年間的研究筆記表示,前板載有可知太陽(yáng)和行星位置的同心環(huán)形天象演示系統(tǒng)。裝置配有前、后兩蓋以保護(hù)顯示系統(tǒng),并刻有大量銘文。2005年的掃描結(jié)果顯示,后...
使用長(zhǎng)焦鏡頭拍攝時(shí),測(cè)光比較好采用機(jī)內(nèi)TTL測(cè)光方式。因?yàn)?,普通的入射式或反射式測(cè)光表的受光角往往大于鏡頭視角,直接按測(cè)光表數(shù)值曝光會(huì)出現(xiàn)偏差 [6]。1、使用較高快門速度高速快門可以降低或避免相機(jī)抖動(dòng)造成的圖像發(fā)虛。尤其是手持相機(jī)時(shí),應(yīng)首先考慮通過(guò)提高快門速...
制造掩模版,比較靈活。但由于其曝光效率低,主要用于實(shí)驗(yàn)室小樣品納米制造。而電子束曝光要適應(yīng)大批量生產(chǎn),如何進(jìn)一步提高曝光速度是個(gè)難題。為了解決電子束光刻的效率問(wèn)題,通常將其與其他光刻技術(shù)配合使用。例如為解決曝光效率問(wèn)題,通常采用電子束光刻與光學(xué)光刻進(jìn)行匹配與混...
更精確的齒輪齒數(shù)此時(shí)也已得知,因此可進(jìn)一步發(fā)展新的齒輪配置模式。更正確的資訊允許萊特可以確認(rèn)普萊斯建議的后方面板的上方轉(zhuǎn)盤是顯示235個(gè)朔望月,分成五個(gè)旋轉(zhuǎn)量度的默冬章。此外,萊特還提出了驚人的看法,他認(rèn)為儀器后面的上方轉(zhuǎn)盤是每次旋轉(zhuǎn)包含47個(gè)部分,總共五個(gè)旋...
以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的交換鏡頭為例,標(biāo)準(zhǔn)鏡頭通常是指焦距在40至55毫米之間的攝影鏡頭,它是所有鏡頭中**基本的一種攝影鏡頭。 標(biāo)準(zhǔn)鏡頭給人以記實(shí)性的視覺(jué)效果畫面,所以在實(shí)際的拍攝中,它的使用頻率是較高的。但是,從另一方面看,由于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭的畫面效果...
安提基特拉機(jī)械,是為了計(jì)算天體在天空中的位置而設(shè)計(jì)的古希臘青銅機(jī)器,屬于模擬計(jì)算機(jī)。該機(jī)器于1900年在希臘安提基特拉島附近的安提基特拉沉船里被發(fā)現(xiàn)。制造年代約在西元前150年到100年之間?,F(xiàn)藏于希臘國(guó)家考古博物館。 [4]類似的工藝技術(shù)(天文鐘)在歐洲直到...
精密壓力表由測(cè)壓系統(tǒng)、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、指示裝置和外殼組成。精密壓力表的測(cè)壓彈性元件經(jīng)特殊工藝處理,使精密壓力表性能穩(wěn)定可靠,與高精度的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)配套調(diào)試后,能確保精確的指示精度。精密壓力表主要用來(lái)校驗(yàn)工業(yè)用普通壓力表,精密壓力表也可在工藝現(xiàn)場(chǎng)精確的測(cè)量對(duì)銅合金和合金結(jié)...
使用長(zhǎng)焦距鏡頭拍攝具有以下幾個(gè)方面的特點(diǎn):一是視角小。所以,拍攝的景物空間范圍也小,在相同的拍攝距離處,所拍攝的影像大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭,適用于拍攝遠(yuǎn)處景物的細(xì)部和拍攝不易接近的被攝體。二是景深短。所以,能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調(diào)焦帶來(lái)了一定的困...
鏡頭的另一個(gè)重點(diǎn)在變焦能力。所謂的變焦能力包括光學(xué)變焦(optical zoom)與數(shù)碼變焦(digital zoom)兩種。兩者雖然都有助于望遠(yuǎn)拍攝時(shí)放大遠(yuǎn)方物體,但是只有光學(xué)變焦可以支持圖像主體成像后,增加更多的像素,讓主體不但變大,同時(shí)也相對(duì)更清晰。通常...
光學(xué)變焦是通過(guò)鏡頭、物體和焦點(diǎn)三方的位置發(fā)生變化而產(chǎn)生的。當(dāng)成像面在水平方向運(yùn)動(dòng)的時(shí)候,視覺(jué)和焦距就會(huì)發(fā)生變化,更遠(yuǎn)的景物變得更清晰,讓人感覺(jué)像物體遞進(jìn)的感覺(jué)。顯而易見(jiàn),要改變視角必然有兩種辦法,一種是改變鏡頭的焦距。用攝影的話來(lái)說(shuō),這就是光學(xué)變焦。通過(guò)改變變...