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半導體器件和集成電路對光刻曝光技術提出了越來越高的要求，在單位面積上要求完善傳遞圖像的信息量已接近常規(guī)光學的極限。光刻曝光的常用波長是3650～4358 埃，預計實用分辨率約為1微米。幾何光學的原理，允許將波長向下延伸至約2000埃的遠紫外波長，此時可達到的實...

06:28已經確認！2000年前的計算機，安提基特拉機械安提基特拉機械是世界上已知**早的齒輪裝置。自從發(fā)現(xiàn)以來一直讓科學史和技術史**好奇又疑惑。數(shù)個個人或團隊研究已經對其機制有更進一步了解。主要研究人員有：首先研究它的德國語言學家阿爾伯特·雷姆、德瑞克·約...

19.超負荷保護裝置之油路清潔,油室清洗,油品換新及壓力動作與功能測試調整.20.主馬達V型皮帶磨耗及張力狀況檢查,調整.21.離剎機構各部件拆卸分解(飛輪不含)清潔保養(yǎng),間隙檢查調整及裝復調試.22.平衡器另部件拆卸分解,清潔檢查及裝復調試.C.每使用600...

得指出的是，EUV光刻技術的研發(fā)始于20世紀80年代。**早希望在半周期為70nm的節(jié)點（對應邏輯器件130nm節(jié)點）就能用上EUV光刻機 [1]。可是，這一技術一直達不到晶圓廠量產光刻所需要的技術指標和產能要求。一拖再拖，直到2016年，EUV光刻機仍然沒能...

按接口C型鏡頭法蘭焦距是安裝法蘭到入射鏡頭平行光的匯聚點之間的距離。法蘭焦距為17.526mm或0.690in。安裝羅紋為：直徑1in，32牙.in。鏡頭可以用在長度為0.512in (13mm)以內的線陣傳感器。但是，由于幾何變形和市場角特性，必須鑒別短焦鏡...

●加工自動化可搭配任何的自動送料機構，進行自動化生產、降低成本，提高效率?！癍h(huán)保、節(jié)能且外形美觀，低噪音、低消耗、節(jié)省能源，流暢簡潔的外觀更能體現(xiàn)出先進的設計理念。1.上模上模是整副沖模的上半部，即安裝于壓力機滑塊上的沖模部分。2、上模座上模座是上模**上面的...

22、壓料檻壓料檻是斷面呈矩形的壓料筋特稱。參閱“壓料筋”。23、承料板承料板是用于接長凹模上平面，承托沖壓材料的板狀零件。24、連續(xù)模連續(xù)模是具有兩個或更多工位的沖模，材料隨壓力機行程逐次送進一工位，從而使沖件逐步成形。25、側刃側刃是在條（帶、卷）料側面切...

西塞羅的著作《論共和國》，一本西元前一世紀的哲學對話錄，提及兩個現(xiàn)代被認為是某種天象儀或太陽系儀的儀器，可以預測日月和五顆行星在天球的位置。這兩個儀器都是由阿基米德制造，在阿基米德于西元前212年的敘拉古圍城戰(zhàn)身亡后，這兩臺機器被羅馬將領馬庫斯·克勞迪烏斯·馬...

魚眼鏡頭通常采用內置濾光鏡的方式，根據(jù)拍攝需要，由攝影者操縱鏡頭上的濾光鏡轉換環(huán)，使需要的濾光鏡轉換至鏡頭的攝影光路中。魚眼鏡頭的前鏡片是整個鏡頭中相當重要的鏡片，由于它向鏡頭前部拋出，故攝影者在拍攝操作（尤其是湊近被攝物拍攝）時要特別注意不要碰撞鏡片。另外，...

攝影者也許會有這樣的體會：在照相機上裝上一個遠攝鏡頭并從單鏡頭反光照相機取景器中觀察，竟一時無法想象充盈于取景器畫面的景象在何方位，不得已，只好將眼睛離開照相機取景目鏡眺望實景，方搞清楚原來是鏡頭視野太窄，它所“見”到的只是人眼通常所見到的畫面中相當小的一部分...

浸沒式光刻技術所面臨的挑戰(zhàn)主要有：如何解決曝光中產生的氣泡和污染等缺陷的問題；研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1．8的光刻膠的問題；研發(fā)折射率較大的光學鏡頭材料和浸沒液體材料；以 及 有 效 數(shù) 值 孔 徑NA值 的 拓 展 等 問題。針 對 這 些 難 ...

舉例來說，對某一確定的被攝體，水平方向需要200個像素才能再現(xiàn)其細節(jié)，如果成像寬度為10mm，則光學分辨率為20線/mm的鏡頭就能勝任，如果成像寬度為1mm，則要求鏡頭的光學分辨率必須在200線/毫米以上。另一方面，傳統(tǒng)膠卷對紫外線比較敏感，外拍時常需要加裝U...

介紹04:54新型DUV光刻機公布，套刻精度達8納米！與全球前列設備差多少？直接分步重復曝光系統(tǒng) (DSW) 超大規(guī)模集成電路需要有高分辨率、高套刻精度和大直徑晶片加工。直接分步重復曝光系統(tǒng)是為適應這些相互制約的要求而發(fā)展起來的光學曝光系統(tǒng)。主要技術特點是：...

46、墊板墊板是介于固定板（或凹模）與模座間的淬硬板狀零件，用以減低模座承受的單位壓縮應力。A.每使用1500-2000小時維護保養(yǎng)應執(zhí)行項目:1.滑潤油脂吐出油量及壓力檢知功能測試與調整.2.空氣系統(tǒng)之濾清器,給油器調整閥等功能及水份雜質測試檢查與必要調整....

光刻系統(tǒng)SUSS是一種應用于半導體制造領域的工藝試驗儀器，其比較大基片尺寸為6英寸，可實現(xiàn)0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統(tǒng)通過精密光學曝光技術完成微電子器件的圖形轉移，為集成電路研發(fā)和生產提供關鍵工藝支持。比較大基片處理能力：支持直徑6英...

魚眼鏡頭的體積較大。以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的魚眼鏡頭為例，當將這種魚眼鏡頭安裝在體積較小的35毫米單鏡頭反光照相機機身上時，有一種“頭（鏡頭）大身體（機身）小”的感覺，且由于魚眼鏡頭重量不輕（如尼柯爾6毫米/F2.8手動對焦魚眼鏡頭重達5200克），...

在曝光過程中，需要對不同的參數(shù)和可能缺陷進行跟蹤和控制，會用到檢測控制芯片/控片（Monitor Chip）。根據(jù)不同的檢測控制對象，可以分為以下幾種：a、顆?？仄≒article MC）：用于芯片上微小顆粒的監(jiān)控，使用前其顆粒數(shù)應小于10顆；b、卡盤顆?？?..

準分子光刻技術作為當前主流的光刻技術，主要包括：特征尺寸為0．1μm的248 nm KrF準分子激光技術；特征尺寸為90 nm的193 nm ArF準分子激光技術；特征尺寸為65 nm的193 nm ArF浸沒式技術（Immersion，193i）。其中193...

06:28已經確認！2000年前的計算機，安提基特拉機械安提基特拉機械是世界上已知**早的齒輪裝置。自從發(fā)現(xiàn)以來一直讓科學史和技術史**好奇又疑惑。數(shù)個個人或團隊研究已經對其機制有更進一步了解。主要研究人員有：首先研究它的德國語言學家阿爾伯特·雷姆、德瑞克·約...

極紫外光刻系統(tǒng)是采用13.5納米波長極紫外光源的半導體制造**設備，可將芯片制程推進至7納米、5納米及更先進節(jié)點。該系統(tǒng)由荷蘭阿斯麥公司于2019年推出第五代產品，突破光學衍射極限，將摩爾定律物理極限推向新高度。2021年12月14日，中國工程院***發(fā)布的"...

e、光刻膠厚度控片（PhotoResist Thickness MC）：光刻膠厚度測量；f、光刻缺陷控片（PDM，Photo Defect Monitor）：光刻膠缺陷監(jiān)控。舉例：0.18μm的CMOS掃描步進光刻工藝。光源：KrF氟化氪DUV光源（248nm...

能強調前景和突出遠近對比。這是廣角鏡頭的另一個重要性能。所謂強調前景和突出遠近對比，是指廣角鏡頭能比其他鏡頭更加強調近大遠小的對比度。也就是說，用廣角鏡頭拍出來的照片，近的東西更大，遠的東西更小，從而讓人感到拉開了距離，在縱深方向上產生強烈的******效果。...

長焦距鏡頭適于拍攝距離遠的景物，景深小容易使背景模糊主體突出，但體積笨重且對動態(tài)主體對焦不易。35mm 相機長焦距鏡頭通常分為三級，135mm以下稱中焦距，135－500mm稱長焦距，500mm 以上稱超長焦距。120 相機的150mm的鏡頭相當于35mm相機...

廣角鏡頭又稱短鏡頭。攝影輔助鏡頭的一種。鏡頭焦距***地小于像場直徑(底片對角線長度)，約為6～35毫米;視角大于標準鏡頭，約為53°以上直至220°。相對口徑一般較小。廣角透鏡在十九世紀六十年代快直光鏡頭出現(xiàn)后即產生，此后經種種演變，已成攝影鏡頭中一個重要類...

放大率問題：光學鏡頭放大率問題，很多客戶可能對鏡頭放大率不了解或者認識不多，所以造成了對鏡頭使用的錯誤操作或者選購不到合適的鏡頭，因此，普密斯光學針對這一問題進行專業(yè)的講述，希望可以幫助大家更好的理解鏡頭參數(shù)問題。放 大 率 光學放大率影像大小相對于物體的放大...

安提基特拉機械，是為了計算天體在天空中的位置而設計的古希臘青銅機器，屬于模擬計算機。該機器于1900年在希臘安提基特拉島附近的安提基特拉沉船里被發(fā)現(xiàn)。制造年代約在西元前150年到100年之間?，F(xiàn)藏于希臘國家考古博物館。 [4]類似的工藝技術（天文鐘）在歐洲直到...

涂底方法：a、氣相成底膜的熱板涂底。HMDS蒸氣淀積，200～250C,30秒鐘；優(yōu)點：涂底均勻、避免顆粒污染；b、旋轉涂底。缺點：顆粒污染、涂底不均勻、HMDS用量大。目的：使表面具有疏水性，增強基底表面與光刻膠的黏附性旋轉涂膠方法：a、靜態(tài)涂膠（Stati...

安提基特拉機械以其小型化和其部分裝置的復雜性可與19世紀機械鐘表相比而聞名。它有超過30個齒輪，雖然麥可·萊特認為它可多達72個有正三角形齒的齒輪。當借由一個曲柄輸入一個日期，該機械就可算出日月或行星等其他天**置。因為該機械是以地球表面觀測天球者為參考座標，...

遠攝鏡頭也稱為長焦距鏡頭，是指比標準鏡頭的焦距長的攝影鏡頭。長焦距鏡頭分為普通遠攝鏡頭和超遠攝鏡頭兩類，普通遠攝鏡頭的焦距長度接近標準鏡頭，而超遠攝鏡頭的焦距卻遠遠大于標準鏡頭。遠攝鏡頭是攝影輔助鏡頭的一種。鏡頭主焦距***地大于底片對角線長度(即大于標準鏡頭...

介紹04:54新型DUV光刻機公布，套刻精度達8納米！與全球前列設備差多少？直接分步重復曝光系統(tǒng) (DSW) 超大規(guī)模集成電路需要有高分辨率、高套刻精度和大直徑晶片加工。直接分步重復曝光系統(tǒng)是為適應這些相互制約的要求而發(fā)展起來的光學曝光系統(tǒng)。主要技術特點是：...