本申請涉及半導體工藝技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種剝離液機臺及其工作方法。背景技術(shù):剝離(lift-off)工藝通常用于薄膜晶體管(thinfilmtransistor)制程中的光罩縮減,lift-off先形成光阻并圖案化,再在光阻上成膜,移除光阻的同時,沉積在光阻上的膜層也被剝離,從而完成膜層的圖形化,通過該制程可以實現(xiàn)兩次光刻合并為一次以達到光罩縮減的目的?,F(xiàn)有技術(shù)中,由于光阻上沉積了薄膜(該薄膜材料可以為金屬,ito(氧化銦錫)等用于制備tft的膜層),在剝離光阻的同時薄膜碎屑被帶入剝離液(stripper)中,大量的薄膜碎屑將會導致剝離液機臺中的過濾器(filter)堵塞,從而導致機臺無法使用,并且需要停止所有剝離液機臺的工作,待將filter清理后再次啟動,降低了生產(chǎn)效率。技術(shù)實現(xiàn)要素:本申請實施例提供一種剝離液機臺及其工作方法,可以提高生產(chǎn)效率。本申請實施例提供一種剝離液機臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設(shè)置通過***管道與當前級腔室對應的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在所述***管道或所述第二管道上設(shè)置有閥門開關(guān)。在一些實施例中。剝離液,高效去除光刻膠,不留痕跡。合肥京東方用的蝕刻液剝離液費用
但現(xiàn)有的回收裝置普遍存在如下問題:剝離廢液利用水洗裝置水洗過濾出光刻膠樹脂成分,回收率低。為了解決這一問題,現(xiàn)有技術(shù)通常再向剝離廢液中加入沉淀劑繼續(xù)反應,而后沉淀過濾出光刻膠樹脂成分,但所得到的光刻膠樹脂成分品質(zhì)不宜再用于光刻膠原料,只能用于其他要求較低的樹脂需求場所。技術(shù)實現(xiàn)要素:本實用新型的目的是為了提供一種結(jié)構(gòu)設(shè)置更為合理、使用方便可靠的光刻膠廢剝離液回收裝置,從根本上解決現(xiàn)有回收裝置回收率低的問題,同時分級回收輸出線性酚醛樹脂成分,分級儲存,以用于不同場合,物盡其用。為達到上述目的,本實用新型采用的技術(shù)方案是:一種光刻膠廢剝離液回收裝置,包括攪拌釜和與攪拌釜連通的過濾罐,攪拌釜頂部設(shè)有廢剝離液投料口,其技術(shù)要點是:所述過濾罐的數(shù)量為兩個,由一級過濾罐和二級過濾罐組成,所述一級過濾罐和二級過濾罐在垂直方向上位于攪拌釜下方,一級過濾罐和二級過濾罐的進料管路分別與攪拌釜底部連通,且進料管路上分別設(shè)有電磁閥,所述一級過濾罐的底部出液口連接有提升泵,所述提升泵的出料管路末端與攪拌釜頂部的循環(huán)料口連通,所述攪拌釜頂部另設(shè)有功能切換口。池州中芯國際用剝離液主要作用剝離液可以有正膠和負膠以及正負膠不同的分類。
圖2為本申請實施例提供的剝離液機臺的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本申請實施例提供的剝離液機臺的第三種結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為本申請實施例提供的剝離液機臺的第四種結(jié)構(gòu)示意圖。圖5為本申請實施例提供的剝離液機臺的工作方法的流程示意圖。具體實施方式目前剝離液機臺在工作時,如果過濾剝離光阻時產(chǎn)生的薄膜碎屑的過濾器被阻塞,則需要剝離液機臺內(nèi)的所有工作單元,待被阻塞的過濾器被清理后,才能重新進行剝離制程,使得機臺需頻繁停線以更換過濾器,極大的降低了生產(chǎn)效率。請參閱圖1,圖1為本申請實施例提供的過濾液機臺100的種結(jié)構(gòu)示意圖。本申請實施例提供一種剝離液機臺100,包括:依次順序排列的多級腔室10、每一級所述腔室10對應連接一存儲箱20;過濾器30,所述過濾器30的一端設(shè)置通過管道40與當前級腔室101對應的存儲箱20連接,所述過濾器30的另一端通過第二管道50與下一級腔室102連接;其中,至少在管道40或所述第二管道50上設(shè)置有閥門開關(guān)60。具體的,圖1所示出的是閥門開關(guān)60設(shè)置在管道40上的示例圖。當當前級別腔室101對應的過濾器30被薄膜碎屑阻塞后,通過閥門開關(guān)60關(guān)閉當前級別腔室101對應的存儲箱20與過濾器30之間的液體流通。
1.顯影液:顯影液是一種溶液,用于在PCB板上顯示銅線軌道的比例和位置,使其成為可以用于焊接元件的良好的PCB板。2.剝離液:剝離液是一種特殊的溶劑,用于將PCB板上的銅線軌道剝離開,以便重新焊接元件。3.蝕刻液:蝕刻液是一種酸性溶液,用于將PCB板上的銅線軌道腐蝕掉,以便重新焊接元件。4.清洗液:清洗液是一種混合物,用于將PCB板上的塵埃、污垢和其他殘留物消除干凈,以便進行焊接和裝配。1.顯影液:是指用于顯影制版的液體,一般由溶劑、硫酸銅、有機酸和抗氧化劑等組成。2.剝離液:是指用于把制版上的顯影膜剝離出來的液體,一般由硝酸鋁、硫酸鈉等組成。3.蝕刻液:是指用于蝕刻制版的液體,一般由硝酸銅、硝酸鈉、硝酸鋅等組成。4.清洗液:是指用于清洗制版的液體,一般由水、硝酸、硫酸、乙醇等組成。剝離液,讓您的加工過程更加高效。
本申請實施例還提供一種剝離液機臺的工作方法,請參閱圖5,圖5為本申請實施例提供的剝離液機臺的工作方法的流程示意圖,該方法包括:步驟110、將多級腔室順序排列,按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級向剝離基板提供剝離液;步驟120、將來自于當前級腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲于當前級腔室相應的存儲箱中,所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑;步驟130、使用當前級腔室相應的過濾器過濾來自當前級腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級腔室;步驟140、若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān);步驟150、取出被阻塞的所述過濾器。若過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則可以關(guān)閉被阻塞的子過濾器的閥門,因此,步驟140還可以包括:若所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則關(guān)閉連接被阻塞的所述子過濾器的管道上的閥門開關(guān)。在上述實施例中,對各個實施例的描述都各有側(cè)重,某個實施例中沒有詳述的部分,可以參見其他實施例的相關(guān)描述。哪家的剝離液的價格低?廣東半導體剝離液推薦廠家
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避免接觸皮膚、眼睛和衣服;存儲:密閉存放在陰涼干燥的地方8.防燥和人員保護極限N-Methyl-2-pyrrolidone80mg/m3(19ml/m3)DFGMAK(peaklimitationcategory-II,2)(Vapour)(skin)10ppmAIHA,TWAN,N-DIMETHYLACETAMIDE-TWA:10ppm,35mg/m3通風:良好的通風措施,保持良好通風人員保護設(shè)備:橡膠手套、防護目鏡,避免接觸皮膚、眼睛、衣服、避免吸入蒸汽壓;9.物理和化學性能物理測試:液體顏色:微黃氣味:類氨熔點:-24~-23℃沸點:165~204℃閃點:110℃蒸汽壓mmHg@20℃蒸汽壓密度(空氣=1):密度(水=1):粘度:10~200cps水中溶解性:任意比例混溶其它溶劑:溶于部分有機溶劑PH值:10.穩(wěn)定性與活性穩(wěn)定性:穩(wěn)定危險反應:有機和無機酸、強氧化劑、堿金屬、強酸混溶性:強氧化劑和酸不能混溶,在高溫氣壓下可與二硫化碳反應避免條件:熱、火、火源及混溶11.毒性N-Methyl-2-pyrrolidone實際毒性LD50/口服:3600mg/kgLD50/皮膚接觸(兔):8000mg/kgLC50/吸入(鼠):>mg/1/4hN,N-DIMETHYLACETAMIDELD50/口服/鼠:>2000mg/kgLD50/皮膚接觸/兔:>。合肥京東方用的蝕刻液剝離液費用