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優(yōu)點雖然使用長焦距鏡頭要受到不少因素的影響，但其優(yōu)點卻是主要的。在遠距離拍攝風光、人物，在看臺拍攝舞臺、體育比賽等，在動物園拍攝動物，在野外拍攝禽獸，加輔助鏡進行近拍等等，在這些眾多的領域中，無處不是它的用武之地。在一般情況下拍攝，為了保持照相機的穩(wěn)定，比較好...

浸沒式光刻機是通過在物鏡與晶圓之間注入超純水，等效縮短光源波長并提升數(shù)值孔徑，從而實現(xiàn)更高分辨率的半導體制造**設備。2024年9月工信部文件顯示，國產(chǎn)氟化氬浸沒式光刻機套刻精度已達到≤8nm水平。該技術研發(fā)涉及浸液系統(tǒng)、光學控制等多項復雜工藝，林本堅團隊在浸...

邊緣光刻膠的去除光刻膠涂覆后，在硅片邊緣的正反兩面都會有光刻膠的堆積。邊緣的光刻膠一般涂布不均勻，不能得到很好的圖形，而且容易發(fā)生剝離（Peeling）而影響其它部分的圖形。所以需要去除。方法：a、化學的方法（Chemical EBR）。軟烘后，用PGMEA或...

主要技術指標：○精密壓力表測量范圍、精確度等級○型號、彈簧管材料、測量范圍MPa、精確度等級、結構特點○精密壓力表使用環(huán)境條件：5～40℃，相對濕度不大于80%，且環(huán)境震動和壓力源的波動對儀表的精確讀數(shù)無影響?！鹁軌毫Ρ頊囟扔绊懀菏褂铆h(huán)境溫度如偏離20±3℃...

魚眼鏡頭的體積較大。以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的魚眼鏡頭為例，當將這種魚眼鏡頭安裝在體積較小的35毫米單鏡頭反光照相機機身上時，有一種“頭（鏡頭）大身體（機身）小”的感覺，且由于魚眼鏡頭重量不輕（如尼柯爾6毫米/F2.8手動對焦魚眼鏡頭重達5200克），...

CS型鏡頭With a 5 mm adapter ring, a C lens can be used on a CS-mount camera.U型鏡頭一種可變焦距的鏡頭，其法蘭焦距為47.526mm或1.7913in，安裝羅紋為M42×1。主要設計作35m...

兩種工藝常規(guī)光刻技術是采用波長為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理，**終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝。在廣義上，它包括光復印和刻蝕工藝兩個主要方面。①光復印工藝...

光刻系統(tǒng)是一種用于半導體器件制造的精密科學儀器，是制備高性能光電子和微電子器件不可或缺的**工藝設備 [1] [6-7]。其技術發(fā)展歷經(jīng)紫外（UV）、深紫外（DUV）到極紫外（EUV）階段，推動集成電路制程不斷進步 [3] [6]。當前**的EUV光刻系統(tǒng)已實...

顯影中的常見問題：a、顯影不完全（Incomplete Development）。表面還殘留有光刻膠。顯影液不足造成；b、顯影不夠（Under Development）。顯影的側(cè)壁不垂直，由顯影時間不足造成；c、過度顯影（Over Development）?？?..

28、頂板頂板是在凹?；蚰K內(nèi)活動的板狀零件，以向上動作直接或間接頂出工（序）件或廢料。29、齒圈齒圈是精沖凹模或帶齒壓料板上的成圈齒形突起，是凹?；驇X壓料板的局部結構而不是單獨的零件。30、限位套限位套是用于限制沖模**小閉合高度的管狀零件，一般套于導柱外...

集成電路制造中利用光學- 化學反應原理和化學、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術。隨著半導體技術的發(fā)展，光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學技術發(fā)展到應用電子束、...

優(yōu)點雖然使用長焦距鏡頭要受到不少因素的影響，但其優(yōu)點卻是主要的。在遠距離拍攝風光、人物，在看臺拍攝舞臺、體育比賽等，在動物園拍攝動物，在野外拍攝禽獸，加輔助鏡進行近拍等等，在這些眾多的領域中，無處不是它的用武之地。在一般情況下拍攝，為了保持照相機的穩(wěn)定，比較好...

后烘方法：熱板，110～130C,1分鐘。目的：a、減少駐波效應；b、激發(fā)化學增強光刻膠的PAG產(chǎn)生的酸與光刻膠上的保護基團發(fā)生反應并移除基團使之能溶解于顯影液。顯影方法：a、整盒硅片浸沒式顯影（Batch Development）。缺點：顯影液消耗很大；顯影...

為把193i技術進一步推進到32和22nm的技術節(jié)點上，光刻**一直在尋找新的技術，在沒有更好的新光刻技術出現(xiàn)前，兩次曝光技術（或者叫兩次成型技術，DPT）成為人們關 注 的 熱 點。ArF浸沒式兩次曝光技術已被業(yè)界認為是32nm節(jié)點相當有競爭力的技術；在更低...

世界三 大光刻機 生產(chǎn)商ASML，Nikon和Cannon的*** 代 浸 沒 式 光 刻 機 樣 機 都 是 在 原 有193nm干式光刻機的基礎上改進研制而成，**降低了研發(fā)成本和風險。因為浸沒式光刻系統(tǒng)的原理清晰而且配合現(xiàn)有的光刻技術變動不大，目前193...

商用級的數(shù)碼相機中多使用與普通35 mm相機相同的普通廣角鏡頭，由于其在景深深，拍攝范圍廣等優(yōu)點，因而在選擇數(shù)碼相機時，同樣性能的數(shù)碼相機，能夠具有廣角和遠距的數(shù)碼相機將會性能更好一些。按結構固定光圈定焦鏡頭光學鏡頭實例簡單：鏡頭只有一個可以手動調(diào)整的對焦調(diào)整...

善的評價莫過于MTF （Modulation Transfer Function）。但是由于像差（標定的原因），鏡頭的每個范圍都有一個MTF值。這些范圍指的是：（1）近軸部分，（2）離軸部分，（3）當光學系統(tǒng)存在不對稱畸變時，上述兩部分在不同方向上的子部分。每...

1902年5月17日，考古學家維拉理奧斯·史大理斯檢查發(fā)現(xiàn)的沉船中物品時發(fā)現(xiàn)一個齒輪嵌在一塊巖石中。 [1]史大理斯一開始認為這是天文鐘，但多數(shù)學者認為這是時代錯誤，這物品和同時期發(fā)現(xiàn)的其他東西相較之下太過復雜。對該物品調(diào)查的熱潮很快下降，直到1951年英國物...

至少有一個阿基米德制造的儀器相當類似安提基特拉機械，而且直到大約西元前150年仍在使用。西塞羅提到的任何一個儀器或許并不是在沉船中找到的安提基特拉機械，因為阿基米德的設計和西塞羅所提的都是在預測的船沉日期之后至少30年的羅馬，而且第三個儀器幾乎確定在當時是在波...

廣角鏡頭***用于大場面風景攝影作品的拍攝。 能增加攝影畫面的空間縱深感； 景深較長，能保證被攝主體的前后景物在畫面上均可清晰的再現(xiàn)。所以，現(xiàn)代絕大多數(shù)的袖珍式自動照相機（俗稱傻瓜照相機）采用38－35毫米的普通廣角鏡頭； 鏡頭的涵蓋面積大，拍攝的景物范圍寬廣...

以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的交換鏡頭為例，標準鏡頭通常是指焦距在40至55毫米之間的攝影鏡頭，它是所有鏡頭中**基本的一種攝影鏡頭。 標準鏡頭給人以記實性的視覺效果畫面，所以在實際的拍攝中，它的使用頻率是較高的。但是，從另一方面看，由于標準鏡頭的畫面效果...

廣角鏡頭是一種焦距短于標準鏡頭、視角大于標準鏡頭、焦距長于魚眼鏡頭、視角小于魚眼鏡頭的攝影鏡頭。廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于...

CS型鏡頭With a 5 mm adapter ring, a C lens can be used on a CS-mount camera.U型鏡頭一種可變焦距的鏡頭，其法蘭焦距為47.526mm或1.7913in，安裝羅紋為M42×1。主要設計作35m...

決定光刻膠涂膠厚度的關鍵參數(shù)：光刻膠的黏度（Viscosity），黏度越低，光刻膠的厚度越??；旋轉(zhuǎn)速度，速度越快，厚度越薄；影響光刻膠均勻性的參數(shù)：旋轉(zhuǎn)加速度，加速越快越均勻；與旋轉(zhuǎn)加速的時間點有關。一般旋涂光刻膠的厚度與曝光的光源波長有關（因為不同級別的曝光...

38、卸料螺釘卸料螺釘是固定在彈壓卸料板上的螺釘，用于限制彈壓卸料板的靜止位置。39、單工序模單工序模是在壓力機一次行程中只完成一道工序的沖模。40、廢料切刀廢料切刀有兩種。1．裝于拉深件凸緣切邊模上用于割斷整圈切邊廢料以利***的切刀。2．裝于壓力機或模具上...

遠攝鏡頭也稱為長焦距鏡頭，是指比標準鏡頭的焦距長的攝影鏡頭。長焦距鏡頭分為普通遠攝鏡頭和超遠攝鏡頭兩類，普通遠攝鏡頭的焦距長度接近標準鏡頭，而超遠攝鏡頭的焦距卻遠遠大于標準鏡頭。遠攝鏡頭是攝影輔助鏡頭的一種。鏡頭主焦距***地大于底片對角線長度(即大于標準鏡頭...

光刻系統(tǒng)SUSS是一種應用于半導體制造領域的工藝試驗儀器，其比較大基片尺寸為6英寸，可實現(xiàn)0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統(tǒng)通過精密光學曝光技術完成微電子器件的圖形轉(zhuǎn)移，為集成電路研發(fā)和生產(chǎn)提供關鍵工藝支持。比較大基片處理能力：支持直徑6英...

2019年荷蘭阿斯麥公司推出新一代極紫外光刻系統(tǒng)，**了當今**的第五代光刻系統(tǒng)，可望將摩爾定律物理極限推向新的高度 [5]。中國工程院《Engineering》期刊于2021年組建跨學科評選委員會，通過全球**提名、公眾問卷等多階段評審，選定近五年內(nèi)完成且具...

在曝光過程中，需要對不同的參數(shù)和可能缺陷進行跟蹤和控制，會用到檢測控制芯片/控片（Monitor Chip）。根據(jù)不同的檢測控制對象，可以分為以下幾種：a、顆?？仄≒article MC）：用于芯片上微小顆粒的監(jiān)控，使用前其顆粒數(shù)應小于10顆；b、卡盤顆?？?..

糾偏裝置（Deviation rectifying device）是由美國美塞斯公司旗下FIFE品牌于1898年發(fā)明的機械裝置，主要用于修正卷材在傳輸過程中產(chǎn)生的橫向偏移。作為工業(yè)生產(chǎn)中的基礎設備，其通過傳感器檢測與驅(qū)動系統(tǒng)聯(lián)動形成閉環(huán)控制，支持跟邊、對中、跟...