久久成人国产精品二三区,亚洲综合在线一区,国产成人久久一区二区三区,福利国产在线,福利电影一区,青青在线视频,日本韩国一级

安徽ITO蝕刻液蝕刻液廠家現(xiàn)貨

來源: 發(fā)布時間:2025-09-05

當(dāng)該風(fēng)刀裝置40的***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時,該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會往該復(fù)數(shù)個宣泄孔121流動,并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出,除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象,亦可達(dá)到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題;此外,為了避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題,因此,該復(fù)數(shù)個宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細(xì)現(xiàn)象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4,而達(dá)到防止位于該第二擋板12的該上表面123的藥液51水滴經(jīng)由該復(fù)數(shù)個宣泄孔121滴下至該基板20上。由上述的實施說明可知,本實用新型的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備與現(xiàn)有技術(shù)相較之下,本實用新型具有以下優(yōu)點。本實用新型的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備主要借由具有復(fù)數(shù)個宣泄孔的擋液板結(jié)構(gòu)搭配風(fēng)刀裝置的硬體設(shè)計,有效使風(fēng)刀裝置吹出的氣體得以經(jīng)由宣泄孔宣泄,并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由宣泄孔落下造成基板蝕刻不均等異?,F(xiàn)象。哪家的蝕刻液比較好用點?安徽ITO蝕刻液蝕刻液廠家現(xiàn)貨

安徽ITO蝕刻液蝕刻液廠家現(xiàn)貨,蝕刻液

因此存在開發(fā)蝕刻液組合物時會過度耗費時間和費用的問題。美國公開**第2號公開了在3dnand閃存的制造工序中,對于硅氧化物膜和硅氮化物膜*選擇性蝕刻硅氮化物膜的蝕刻液組合物。然而,為了選擇構(gòu)成成分的種類和濃度,不得不需要測試蝕刻液組合物的蝕刻性能,實際情況是,與上述同樣,仍然沒有解決在找尋蝕刻液組合物的適宜組成方面過度耗費時間和費用的問題?,F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)**文獻(xiàn)**文獻(xiàn)1:美國公開**第2號技術(shù)實現(xiàn)要素:所要解決的課題本發(fā)明是為了改善上述以往技術(shù)問題的發(fā)明,其目的在于,提供用于選擇硅烷系偶聯(lián)劑的參數(shù)以及包含由此獲得的硅烷系偶聯(lián)劑的蝕刻液組合物,所述硅烷系偶聯(lián)劑作為添加劑即使不進(jìn)行另外的實驗確認(rèn)也具有在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜的效果和防蝕能力。此外,本發(fā)明的目的在于,提供一種以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中能夠*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征的蝕刻液組合物。此外,本發(fā)明的目的在于,提供利用上述蝕刻液組合物的蝕刻方法。此外,本發(fā)明的目的在于,提供選擇上述蝕刻液組合物所包含的硅烷系偶聯(lián)劑的方法。解決課題的方法為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種蝕刻液組合物,其特征在于,包含磷酸、硅烷。四川格林達(dá)蝕刻液供應(yīng)哪家的蝕刻液價格比較低?

安徽ITO蝕刻液蝕刻液廠家現(xiàn)貨,蝕刻液

提高反應(yīng)體系的穩(wěn)定性。當(dāng)體系中加入過氧化氫后有助于提高過氧化氫的穩(wěn)定性,避免由于過氧化氫分解而引發(fā)的,提高生產(chǎn)的安全性。具體實施方式下面結(jié)合實施例,對本發(fā)明的具體實施方式作進(jìn)一步描述。以下實施例用于更加清楚地說明本發(fā)明的技術(shù)方案,而不能以此來限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝,所述工藝包括以下步驟:第一步:將純水進(jìn)行低溫處理,使純水溫度≤10℃在純水罐中備用;純水罐中設(shè)有通過電路控制的電磁閥,當(dāng)純水溫度高于10℃時,電磁閥無法打開。第二步:配制和準(zhǔn)備原料,將亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸分別投入對應(yīng)的原料罐中,經(jīng)過過濾器循環(huán)過濾,備用;將hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2分別投入對應(yīng)的原料罐,備用。亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸需要稀釋后使用,hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2無需調(diào)配可直接用于制備蝕刻液。第三步:根據(jù)混酸配制表算出各個原料的添加量,按照純水→亞氨基二乙酸→氫氟酸→hno3→四甲基氫氧化銨→乙醇酸的順序依次將原料加入調(diào)配罐,將上述混料充分?jǐn)嚢瑁瑪嚢钑r間為3~5h。第四步:在第三步的混料中再添加h2o2,繼續(xù)攪拌混勻,攪拌時間為3~5h,用磁力泵將混合液通過過濾器循環(huán)過濾。

silane)系偶聯(lián)劑和水,上述硅烷系偶聯(lián)劑使上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。此外,提供一種選擇硅烷系偶聯(lián)劑的方法,其是選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法,其特征在于,選擇上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。發(fā)明效果本發(fā)明的蝕刻液組合物提供即使不進(jìn)行另外的實驗確認(rèn)也能夠選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜的效果和防蝕能力優(yōu)異的硅烷系偶聯(lián)劑的效果。此外,本發(fā)明的蝕刻液組合物提供在不損傷氧化物膜的同時*選擇性蝕刻氮化物膜的效果。附圖說明圖1是示出3dnand閃存(flashmemory)制造工序中的一部分的圖。圖2和圖3是示出制造3dnand閃存時氮化物膜去除工序(濕法去除氮化物(wetremovalofnitride))中所發(fā)生的工序不良的圖。圖4是示出能夠?qū)?dnand閃存制造工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的殘留以及氧化物膜損傷不良**少化的、硅烷系偶聯(lián)劑適宜防蝕能力范圍的圖。圖5是示出硅烷系偶聯(lián)劑的aeff值與蝕刻程度。剝離液是用于光刻膠剝離用的化學(xué)品。

安徽ITO蝕刻液蝕刻液廠家現(xiàn)貨,蝕刻液

所述裝置主體的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥,所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)固定連接有過濾部件,所述裝置主體的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉,所述收集倉的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門,所述過濾部件的頂端兩側(cè)活動連接有滑動蓋,所述過濾部件的內(nèi)部中間兩側(cè)固定連接有收縮彈簧管,所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)兩端嵌入連接有螺紋管,所述連接構(gòu)件的內(nèi)部中間兩側(cè)活動連接有活動軸,所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)中間兩側(cè)嵌入連接有密封軟膠層。推薦的,所述硝酸鉀儲罐的頂部嵌入連接有密封環(huán)。推薦的,所述連接構(gòu)件的兩側(cè)嵌入連接有海綿層。推薦的,所述支撐腿的底端嵌入連接有防滑紋。推薦的,所述過濾部件的內(nèi)部兩側(cè)嵌入連接有過濾板。推薦的,所述過濾部件設(shè)置有一個,所述過濾部件設(shè)置在連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè),所述過濾部件與連接構(gòu)件固定連接。推薦的,所述連接構(gòu)件設(shè)置有十四個,所述連接構(gòu)件設(shè)置在攪拌倉的底部,所述連接構(gòu)件與攪拌倉固定連接。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型的有益效果是:1.高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,過濾部件,過濾部件設(shè)置在連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè),過濾部件與連接構(gòu)件固定連接,過濾部件能將制備出的蝕刻液進(jìn)行過濾。哪家公司的蝕刻液的是口碑推薦?江蘇銅蝕刻液蝕刻液

蝕刻液使用時要注意什么?安徽ITO蝕刻液蝕刻液廠家現(xiàn)貨

本實用新型有關(guān)于一種擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備,尤其是指一種適用于濕式蝕刻機(jī)的擋液排液功能且增加其透氣性以降低產(chǎn)品損耗的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備。背景技術(shù):請參閱圖1所示,為傳統(tǒng)擋液板結(jié)構(gòu)的整體設(shè)置示意圖,其中一實心pvc板態(tài)樣的擋液板結(jié)構(gòu)a設(shè)置于一濕式蝕刻機(jī)(圖式未標(biāo)示)內(nèi),主要用以阻擋一蝕刻藥液(圖式未標(biāo)示)對設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)a下方的基板(圖式未標(biāo)示)的噴濺而造成蝕刻不均勻的現(xiàn)象,并且在濕式蝕刻的制程步驟中,該基板設(shè)置于二風(fēng)刀b之間,當(dāng)該基板設(shè)置于一輸送裝置(圖式未標(biāo)示)而由該擋液板結(jié)構(gòu)a的左方接受蝕刻藥液蝕刻后移動至風(fēng)刀b之間,該等風(fēng)刀b再噴出一氣體c到該基板的表面以將該基板表面殘留的蝕刻藥液吹除;然而,當(dāng)在該等風(fēng)刀b進(jìn)行吹氣的狀態(tài)下,容易在該擋液板結(jié)構(gòu)a下方形成微小的真空空間而形成渦流并造成真空吸板的問題;因此,如何有效借由創(chuàng)新的硬體設(shè)計,確實達(dá)到保有原始擋液板的擋液效果,以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板導(dǎo)致的基板刮傷或破片風(fēng)險,仍是濕式蝕刻機(jī)等相關(guān)產(chǎn)業(yè)開發(fā)業(yè)者與相關(guān)研究人員需持續(xù)努力克服與解決的課題。安徽ITO蝕刻液蝕刻液廠家現(xiàn)貨