金屬反射膜的優(yōu)點是制備工藝簡單,工作的波長范圍寬;缺點是光損大,反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高,可以在膜的外側加鍍幾層一定厚度的電介質層,組成金屬電介質反射膜。需要指出的是,金屬電介質射膜增加了某一波長(或者某一波區(qū))的反射率,卻破壞了金屬膜中性反射的特點。全電介質反射膜是建立在多光束干涉基礎上的。與增透膜相反,在光學表面上鍍一層折射率高于基體材料的薄膜,就可以增加光學表面的反射率。**簡單的多層反射是由高、低折射率的二種材料交替蒸鍍而成的,每層膜的光學厚度為某一波長的四分一。在這種條件下,參加疊加的各界面上的反射光矢量,振動方向相同。合成振幅隨著薄膜層數的增加而增加。波長分光膜又叫雙色分光膜,顧名思義它是按波長區(qū)域把光束分成兩部分的薄膜。江蘇質量光學膜按需定制
**簡單的光學薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質薄層。在這種情況下,可以用光的干涉理論來研究光學薄膜的光學性質。當一束單色平面波入射到光學薄膜上時,在它的兩個表面上發(fā)生多次反射和折射,反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出,反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確定(見光在分界面上的折射和反射)。光學薄膜的特點是:表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內是連續(xù)的;可以是透明介質,也可以是吸收介質;可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。實際應用的薄膜要比理想薄膜復雜得多。這是因為:制備時,薄膜的光學性質和物理性質偏離大塊材料,其表面和界面是粗糙的,從而導致光束的漫散射;膜層之間的相互滲透形成擴散界面;由于膜層的生長、結構、應力等原因,形成了薄膜的各向異性;膜層具有復雜的時間效應。江蘇質量光學膜按需定制它們在國民經濟和建設中得到了廣泛的應用,獲得了科學技術工作者的日益重視。
01:21長步道工業(yè)光學|鏡頭鏡片的鍍膜工藝居然需要納米級的工藝光學零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強度分布,這是干涉鍍膜的基本原理。光學薄膜在高真空度的鍍膜腔中實現。常規(guī)鍍膜工藝要求升高基底溫度(通常約為300℃);而較先進的技術,如離子輔助沉積(IAD)可在室溫下進行。IAD工藝不但生產比常規(guī)鍍膜工藝具有更好物理特性的薄膜,而且可以應用于塑料制成的基底。圖19.11展示一個操作者正在光學鍍膜機前。抽真空主系統(tǒng)由兩個低溫泵組成。電子束蒸發(fā)、IAD沉積、光控、加熱器控制、抽真空控制和自動過程控制的控制模塊都在鍍膜機的前面板上。
光學功能膜由分層介質構成,通過界面?zhèn)鞑崿F光束調控,包括偏振片和相位差補償膜。其中偏振片通過選擇性透過特定偏振方向光波,相位差補償膜則用于修正光程差,二者是液晶顯示器實現顯像功能的關鍵組件 [1-2]?;A研究階段(19世紀初-20世紀初)德國、美國科學家建立光學薄膜基礎理論體系,促成減反射膜等初期產品問世 [1]。2.工業(yè)化應用階段(20世紀30年代-90年代)真空鍍膜技術突破推動產品實用化,逐步應用于攝影鏡頭、顯微鏡等光學儀器 [1]。特別在紫外區(qū),一般電介質材料吸收都比較大的情況下,它的優(yōu)越性就更明顯了。
光學薄膜按應用分為反射膜、增透膜、濾光膜、光學保護膜、偏振膜、分光膜和位相膜。常用的是前4種。光學反射膜用以增加鏡面反射率,常用來制**光、折光和共振腔器件。光學增透膜沉積在光學元件表面,用以減少表面反射,增加光學系統(tǒng)透射,又稱減反射膜。光學濾光膜用來進行光譜或其他光性分割,其種類多,結構復雜。光學保護膜沉積在金屬或其他軟性易侵蝕材料或薄膜表面,用以增加其強度或穩(wěn)定性,改進光學性質。最常見的是金屬鏡面的保護膜。這種濾光片的透過率對薄膜的損耗非常敏感,所以制備透過率很高、半寬度又很窄的濾光片是很困難的。南通挑選光學膜供應商
圖3的a、b、c分別給出法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片的典型曲線。江蘇質量光學膜按需定制
濾光膜屬于光學薄膜的一種,其主要功能是過濾掉光譜中不需要的特定成分,常用于各類濾光片制造 [1-2]。根據光譜波段可分為紫外、可見及紅外濾光膜;按光譜特性分為帶通、截止及分光型。帶通濾光膜允許選定波段的光通過,截止型則分為短波通或長波通。膜層材料上,硬膜濾光片多用于激光系統(tǒng),而軟膜則廣泛應用于生化分析儀 [1]。作為光學膜技術的重要分支,濾光膜通過分層介質結構改變光波傳遞特性,廣泛應用于精密光學設備、顯示器及電子產品中江蘇質量光學膜按需定制
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